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透射電子顯微學及技術應用/材料分析測試技術與應用系列/材料研究與應用叢書

  • 作者：編者:魏大慶//孟慶昌//孫良博//王慶宇|責編:王會麗//周一曈//馬毓聰
  • 出版社：哈爾濱工業大學
  • ISBN：9787576723465
  • 出版日期：2026/03/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：414
人民幣：RMB 98 元      售價：元
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內容大鋼
    透射電子顯微分析技術廣泛應用於材料科學等研究領域，是研究材料相變、形變、強化、表面改性、焊接等微觀機理的重要分析方法。「透射電子顯微學」是以透射電鏡及其實驗技術為基礎的一門課程，其主要目的是培養學生利用透射電鏡技術分析和解決有關材料問題的能力。通過本課程的學習，學生可理解電子衍射和薄晶體衍射成像的基本理論，掌握電子衍射技術測定晶體結構和晶體取向的方法原理及其應用。
    本書共23章，主要包括6個部分：第1?4章為第1部分，介紹材料、物理學及電鏡結構等相關基礎知識；第5?9章為第2部分，介紹各種電子衍射花樣的形成、標定和分析，以及圖像的襯度及應用；第10?12章為第3部分，介紹晶體缺陷分析；第13?16章為第4部分，介紹複雜衍射花樣分析；第17章為第5部分，介紹高分辨電子顯微分析；第18?23章為第6部分，介紹其他形貌、成分及衍射分析技術等。
    本書可作為材料學科的本科生和研究生教材，也可供材料科學、冶金、晶體學、金屬物理等有關研究領域的科技人員及電鏡工作者參考。
作者介紹
編者:魏大慶//孟慶昌//孫良博//王慶宇|責編:王會麗//周一曈//馬毓聰
目錄
第1章 晶體學基礎
  1.1 概述
  1.2 點陣與陣點
  1.3 晶體點陣
  1.4 晶胞
  1.5 晶體對稱程度及對稱要素
第2章 散射與波衍射理論基礎
  2.1 波的基本概念
  2.2 電子散射
  2.3 衍射與干涉
第3章 透射電鏡結構組成與工作原理
  3.1 概述
  3.2 透射電鏡的結構原理與電磁透鏡
  3.3 透射電鏡的基本組成與附件及操作
  3.4 透射樣品的常用製備方法
第4章 倒易點陣
  4.1 概述
  4.2 倒易點陣與空間的構造
  4.3 倒易矢量基本定律
  4.4 倒易點陣與正點陣的關係——指數互換
  4.5 晶面間距、晶面夾角和晶向夾角的計算
第5章 電子衍射基本原理
  5.1 概述
  5.2 布拉格衍射與電子衍射花樣
  5.3 布拉格衍射與埃瓦爾德球及倒易點陣關係
  5.4 結構因子與倒易點陣類型
  5.5 倒易陣點的形狀與偏離參量
第6章 電子衍射花樣的獲取與標定
  6.1 概述
  6.2 單晶電子衍射圖的幾何特徵
  6.3 晶帶定律與零層倒易平面
  6.4 晶體電子衍射圖的標定
第7章 透射電鏡形貌與衍射分析基本功能
  7.1 物質形貌觀察功能
  7.2 衍射花樣與結構分析功能
  7.3 衍射花樣與取向分析功能
  7.4第二相分析功能
  7.5 其他分析應用功能
第8章 電子顯微鏡圖像襯度原理
  8.1 概述
  8.2 襯度類型
  8.3 明場像與暗場像
  8.4 運動學理論與基本假設
  8.5 電子襯度動力學理論過程
第9章 菊池衍射圖的分析及應用
  9.1 基本概念
  9.2 菊池線的產生
  9.3 菊池線的幾何特徵
  9.4 菊池線的標定
  9.5 菊池衍射圖的應用

第10章 位錯與層錯特徵
  10.1 位錯的基本結構特徵
  10.2 層錯的基本結構特徵
  10.3 位錯的特性
第11章 層錯與位錯衍襯分析
  11.1 實驗要求與條件
  11.2 位錯的衍襯分析
  11.3 層錯的衍襯及定量分析
第12章第二相粒子及界面分析
  12.1第二相粒子襯度
  12.2 多晶界面衍襯分析
  12.3 相界面及其他界面衍襯分析
第13章 高階勞厄區電子衍射圖的分析及應用
  13.1 高階勞厄帶斑點的形成
  13.2 高階勞厄帶斑點的幾何特徵
  13.3 高階勞厄帶斑點指數的標定(垂直投影法)
  13.4 高階勞厄帶斑點的應用
第14章 晶體複雜衍射花樣特徵
  14.1 概述
  14.2 超點陣斑點
  14.3 二次衍射斑點
  14.4 層錯的衍射條紋
  14.5 長周期衍射花樣
  14.6 衛星斑點
第15章 孿晶電子衍射圖的分析
  15.1 孿晶的晶體幾何特徵及倒易點陣
  15.2 二次旋轉孿晶指數變換公式
  15.3 立方晶系孿晶電子衍射圖的分析
第16章 兩相取向關係的測定
  16.1 概述
  16.2 兩相取向關係的描述
  16.3 由兩相合成電子衍射圖直接確定兩相的取向關係
  16.4 測定兩相取向關係的矩陣方法
  16.5 測定兩相取向關係的矩陣方法的應用
  16.6 測定兩相取向關係應注意的問題
第17章 高分辨成像技術及應用
  17.1 高分辨成像技術發展歷程
  17.2 高分辨電子顯微相位襯度像的成像原理及操作
  17.3 高分辨電子顯微相位襯度像的影響因素
  17.4 高分辨像的電腦模擬技術
  17.5 高分辨電子顯微術在材料科學中的應用
第18章 系列傾轉技術與跡線分析
  18.1 雙傾操作及其等效轉換
  18.2 相鄰晶粒取向差的測定
  18.3 跡線分析法
第19章 掃描透射電子顯微鏡分析
  19.1 STEM的發展和特點
  19.2 STEM的工作原理與結構
  19.3 高角度環形暗場像
  19.4 STEM的應用

第20章 電子能量損失譜分析
  20.1 電子能量損失譜的基本原理
  20.2 電子能量損失譜儀的結構與工作原理
  20.3 電子能量損失譜特徵
  20.4 EELS在材料分析中的應用
  20.5 能量過濾成像(EFI)
第21章 會聚束電子衍射技術
  21.1 會聚束電子衍射的特徵與形成原理
  21.2 會聚束電子衍射花樣的獲取及分析
  21.3 會聚束電子衍射的運用
第22章 弱束暗場成像技術
  22.1 弱束暗場成像原理
  22.2 弱束像的類型及衍射幾何關係
  22.3 弱束像的實驗條件及操作
  22.4 弱束暗場技術在材料研究中的應用
第23章 透射電子顯微鏡其他相關技術
  23.1 球差校正
  23.2 冷凍透射電鏡
  23.3 四維超快透射電鏡
  23.4 納米束衍射
  23.5 原位加熱與低溫觀察
  23.6 原位拉伸
附錄Ⅰ 常用晶體學公式
  Ⅰ.1 立方點陣(Cubic Lattices)
  Ⅰ.2 六角點陣(Hexagonal Lattices)
  Ⅰ.3 四角點陣(Tetragonal Lattices)
  Ⅰ.4 正交點陣(Orthorhombic Lattices)
  Ⅰ.5 三角點陣(Trigonal Lattices)
  Ⅰ.6 單斜點陣(Monoclinic Lattices)
  Ⅰ.7 三斜點陣(Triclinic Lattices)
附錄Ⅱ 常見晶體標準電子衍射花樣
  Ⅱ.1 面心立方
  Ⅱ.2 體心立方
  Ⅱ.3 密排六方
  Ⅱ.4 金剛石立方
附錄Ⅲ 立方晶體電子衍射圖特徵平行四邊形表
  Ⅲ.1 體心立方晶體電子衍射圖特徵四邊形表
  Ⅲ.2 面心立方晶體電子衍射圖特徵四邊形表
參考文獻

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