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集成電路版圖設計從入門到精通/集成電路設計與集成系統叢書

  • 作者：編者:鄒雪//孫曉東//楊影|責編:賈娜
  • 出版社：化學工業
  • ISBN：9787122469663
  • 出版日期：2025/05/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：205
人民幣：RMB 79 元      售價：元
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內容大鋼
    本書從一般製造工藝講起，分別介紹了常見器件的版圖設計方法，然後講解版圖驗證方法，最後通過典型實例，將各個知識點串聯起來，應用華大九天EDA工具，從原理圖的輸入、版圖布局布線、版圖優化、後端驗證到后模擬，完成全定製版圖的全流程設計。
    主要內容包括：半導體製造基礎知識、典型工藝、操作系統、Aether軟體與操作指導、MOS管版圖設計、電阻的版圖設計、電容的版圖設計、雙極型晶體管版圖設計、二極體的版圖設計及應用、特殊處理專題、版圖驗證、后模擬、版圖設計實例以及設計技巧。
    本書可為集成電路、晶元、半導體及相關行業的工程技術人員提供幫助，也可作為教材供高等院校相關專業師生學習參考。
作者介紹
編者:鄒雪//孫曉東//楊影|責編:賈娜
目錄
第1章  半導體製造基礎知識
  1.1  硅製造
    1.1.1  半導體級硅
    1.1.2  晶體生長
    1.1.3  晶圓製造
    1.1.4  晶圓製造設備
  1.2  氧化工藝
    1.2.1  氧化物生長
    1.2.2  氧化物去除
    1.2.3  氧化設備
  1.3  摻雜工藝
    1.3.1  擴散
    1.3.2  離子注入
    1.3.3  摻雜設備
  1.4  薄膜製備工藝
    1.4.1  物理氣相淀積
    1.4.2  化學氣相淀積
    1.4.3  薄膜製備設備
  1.5  光刻技術
    1.5.1  光刻膠
    1.5.2  光刻工藝流程
  1.6  刻蝕工藝
    1.6.1  濕法刻蝕
    1.6.2  干法刻蝕
    1.6.3  刻蝕設備
  1.7  金屬化
    1.7.1  金屬類型
    1.7.2  金屬化設備
  1.8  化學機械平坦化
    1.8.1  化學機械平坦化原理
    1.8.2  化學機械平坦化設備
  習題
第2章  典型工藝
  2.1  標準雙極工藝
    2.1.1  基本概念
    2.1.2  工藝流程
    2.1.3  應用器件
  2.2  CMOS工藝
    2.2.1  基本概念
    2.2.2  工藝流程
    2.2.3  應用器件
  2.3  BiCMOS工藝
    2.3.1  基本概念
    2.3.2  工藝流程
    2.3.3  應用器件
  習題
第3章  操作系統
  3.1  UNIX操作系統
  3.2  Linux操作系統
    3.2.1  Linux操作系統簡介

    3.2.2  Linux常用操作
    3.2.3  Linux文件系統
    3.2.4  Linux文件系統常用工具
  習題
……
第4章  Aether軟體與操作指導
第5章  MOS管版圖設計
第6章  電阻的版圖設計
第7章  電容的版圖設計
第8章  雙極型晶體管版圖設計
第9章  二極體的版圖設計及應用
第10章  特殊處理專題
第11章  版圖驗證
第12章  后模擬
第13章  版圖設計實例以及設計技巧

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