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真空鍍膜技術與應用

  • 作者：編者:田燦鑫|責編:李蘭英
  • 出版社：武漢理工
  • ISBN：9787562969792
  • 出版日期：2024/05/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：234
人民幣：RMB 98 元      售價：元
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內容大鋼
    本書內容涵蓋了真空鍍膜的關鍵技術和實際應用。在介紹真空鍍膜技術基礎理論及應用的基礎上，著重闡述了真空蒸發鍍膜、真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、等離子體增強化學氣相沉積的原理、工藝、應用等，緊接著介紹了薄膜厚度的測量、薄膜分析檢測技術等方面的內容，最後詳細闡述了工模具真空鍍膜生產線的具體工藝流程。本書敘述深入淺出，內容豐富而精煉，工程實踐性強，在強化理論的同時，重點突出了工程應用，賄很強的實用性。本書適合從事真空鍍膜技術、薄膜與表面工程、材料工程等領域的研究、設計、設備操作及維護工作的技術人員閱讀參考。
作者介紹
編者:田燦鑫|責編:李蘭英
目錄
1  真空鍍膜技術概論
  1.1  真空鍍膜技術分類
  1.2  真空基礎知識
  1.3  真空鍍膜系統
  1.4  真空的獲得
  1.5  真空的測量
  1.6  真空鍍膜技術的應用
2  真空蒸發鍍膜
  2.1  真空蒸發鍍膜的原理
  2.2  蒸發加熱方式及蒸發源
  2.3  真空蒸鍍工藝
  2.4  真空蒸發鍍膜技術的應用
3  真空濺射鍍膜
  3.1  濺射鍍膜的特點
  3.2  濺射的基本原理
  3.3  直流濺射
  3.4  射頻濺射
  3.5  磁控濺射
  3.6  高功率脈衝磁控濺射
  3.7  真空濺射鍍膜技術的應用
4  真空離子鍍膜
  4.1  真空離子鍍膜的分類
  4.2  離子鍍技術的原理
  4.3  空心陰極離子鍍
  4.4  電弧離子鍍膜
  4.5  離子束沉積技術
  4.6  真空離子鍍膜技術的應用
5  等離子體增強化學氣相沉積
  5.1  化學氣相沉積技術
  5.2  等離子體增強化學氣相沉積原理
  5.3  等離子體增強化學氣相沉積技術特點及發展趨勢
  5.4  等離子體增強化學氣相沉積技術類型
  5.5  各種新型等離子體增強化學氣相沉積技術
  5.6  等離子體增強化學氣相沉積技術的應用
6  工模具真空鍍膜生產線
  6.1  PVD工模具塗層生產線
  6.2  TiN、CrN塗層、AlCrN、AlTiN塗層
  6.3  納米晶非晶複合塗層TiSiN、TiBN
  6.4  多元多層塗層、高熵合金塗層
參考文獻

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