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激光熱敏光刻--原理與方法(精)/變革性光科學與技術叢書

  • 作者：魏勁松|責編:魯永芳|總主編:羅先剛
  • 出版社：清華大學
  • ISBN：9787302607458
  • 出版日期：2022/08/01
  • 裝幀：精裝
  • 頁數：219
人民幣：RMB 129 元      售價：元
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內容大鋼
    本書首先對目前各種光刻技術的原理、方法和特點進行描述與分析比較，由此引出本書的主題——激光熱敏光刻；然後詳細闡述激光熱敏光刻的物理過程、儀器系統、光刻策略、用於超越光斑尺寸的納米光刻、跨尺度光刻、寬波段光刻、解析度極限光刻、灰度圖形光刻，以及圖形轉移的方法和相應的實驗結果及應用事例。希望本書闡述的內容能從另一個角度分析和理解光刻，從而給目前的光刻技術帶來變革性影響，以滿足未來個性化和智能化的微電子晶元與微納結構光電子器件的需求。
    本書適合從事激光光刻與加工的工程技術人員、光刻膠研發人員、光刻工藝開發人員，以及高等院校和科研院所的光學工程、材料學、微納加工、光學儀器等專業的研究生和本科生閱讀使用。
作者介紹
魏勁松|責編:魯永芳|總主編:羅先剛
目錄
第1章  光刻技術研究現狀
  1.1  引言
  1.2  光刻方法
    1.2.1  掩模曝光技術
    1.2.2  無掩模光刻
    1.2.3  光刻技術優缺點
  1.3  光敏光刻膠材料
    1.3.1  有機光刻膠薄膜
    1.3.2  S／Se基硫系薄膜
  1.4  本章小結
  參考文獻
第2章  激光熱敏光刻原理
  2.1  引言
  2.2  光學光敏光刻
  2.3  激光熱敏光刻
    2.3.1  原子尺度的線邊緣粗糙度
    2.3.2  無衍射極限光刻
    2.3.3  跨尺度光刻
    2.3.4  寬波段光刻
    2.3.5  正性光刻膠與負性光刻膠的相互轉化
  2.4  硫系化合物快速相變機理
    2.4.1  傘滑躍模型
    2.4.2  多元環模型
  2.5  激光熱敏光刻與光學光敏光刻比較
  2.6  本章小結
  參考文獻
第3章  高速旋轉型激光熱敏光刻系統
  3.1  引言
  3.2  系統基本架構
  3.3  伺服跟蹤模塊
    3.3.1  基於雙柱面鏡的像散法原理
    3.3.2  聚焦誤差信號理論分析
    3.3.3  計算與模擬結果
    3.3.4  伺服跟蹤模塊測試
    3.3.5  伺服跟蹤模塊實驗結果
  3.4  樣品運動誤差測試模塊
    3.4.1  基於單柱面鏡的像散法
    3.4.2  小孔尋焦法的理論分析
    3.4.3  樣品運動台的平面度測試系統
    3.4.4  樣品台的運動平面度測試
  3.5  極坐標系統圖形發生器
  3.6  任意圖形刻寫的實驗結果
  3.7  本章小結
  參考文獻
第4章  激光熱敏光刻中的熱擴散調控
  4.1  引言
  4.2  激光熱敏光刻中的熱擴散效應
  4.3  改變熱敏光刻膠的熱物特性調控熱擴散通道
    4.3.1  熱擴散係數
    4.3.2  薄膜厚度

  4.4  通過熱傳導層調控熱擴散通道
    4.4.1  下Si層對熱斑的影響
    4.4.2  上Si層對熱斑的影響
    4.4.3  上Si層與下Si層共同調控熱斑
  4.5  曝光時間的影響
    4.5.1  高速刻寫
    4.5.2  短脈衝曝光刻寫
    4.5.3  激光熱敏光刻方案的優化
  4.6  本章小結
  參考文獻
第5章  硫化物熱敏光刻膠薄膜與激光熱敏光刻
  5.1  引言
  5.2  Te基硫化物熱敏光刻膠
    5.2.1  AgInSbTe熱敏光刻膠
    5.2.2  Ge-Sb-Te光刻膠
    5.2.3  TeOx光刻膠
  5.3  高速激光熱敏納米光刻
    5.3.1  光熱局域化分析
    5.3.2  基於高速旋轉縮短曝光時間
    5.3.3  激光熱敏納米光刻
  5.4  激光熱敏光刻的任意特徵尺寸調整
    5.4.1  模擬和分析
    5.4.2  跨尺度圖形結構製造
    5.4.3  複雜圖形結構製造
  5.5  本章小結
  參考文獻
第6章  基於有機薄膜的激光熱敏光刻
  6.1  引言
  6.2  基於熱汽化與變形的熱敏光刻
    6.2.1  分子結構分析
    6.2.2  熱學性質
    6.2.3  光學性質
    6.2.4  光熱局域化響應的理論分析
    6.2.5  光刻的物理圖像
    6.2.6  光刻圖形結構
  6.3  熱汽化誘導的一次性光刻
  6.4  基於熱交聯效應的光刻
    6.4.1  聚焦光斑誘導局域曝光后烘技術
    6.4.2  不同曝光功率誘導的光敏光刻與熱敏光刻轉變
  6.5  本章小結
  參考文獻
第7章  透明薄膜的激光熱敏光刻
  7.1  引言
  7.2  透明薄膜的激光熱敏光刻原理
  7.3  透明薄膜的光熱性質
  7.4  ZnS-SiO2薄膜的選擇性濕刻機理
    7.4.1  鍵合模型
    7.4.2  包層模型
  7.5  光吸收層輔助的微納光刻
    7.5.1  AgInSbTe作為光吸收層

    7.5.2  Ge作為光吸收層
    7.5.3  無定形Si作為光吸收層
    7.5.4  AlNiGd金屬玻璃作為光吸收層
  7.6  AgOx作為光吸收層直接圖形化
  7.7  本章小結
  參考文獻
第8章  激光熱敏灰度光刻與彩色列印
  8.1  引言
  8.2  基於微納結構的激光灰度光刻
    8.2.1  馬蘭戈尼效應實現微納圖形化
    8.2.2  內部汽化膨脹形成鼓包圖形
    8.2.3  利用激光誘導微納結構進行灰度光刻
  8.3  基於結晶效應的激光灰度光刻
    8.3.1  激光能量誘導的反射率變化
    8.3.2  基於Ge2Sb2Te5薄膜的灰度光刻
    8.3.3  Ge2Sb2Te5薄膜灰度光刻的應用
  8.4  基於TeOx結構演化的灰度光刻
    8.4.1  結構演化特性
    8.4.2  結構演化誘導灰度圖形
  8.5  其他灰度光刻方法
    8.5.1  表面氧化
    8.5.2  晶粒細化
  8.6  激光熱敏彩色列印
    8.6.1  基於Sb2Te3薄膜的彩色列印
    8.6.2  基於Ge2Sb2Te5薄膜的彩色列印
  8.7  本章小結
  參考文獻
第9章  激光熱敏光刻膠的圖形轉移
  9.1  引言
  9.2  基於ICP／RIE的圖形轉移
    9.2.1  無機熱敏光刻膠的圖形轉移
    9.2.2  有機熱敏光刻膠的圖形轉移
  9.3  基於刻蝕技術的GaAs圖形轉移
  9.4  基於光存儲技術的圖形轉移
    9.4.1  電鍍
    9.4.2  直接模板壓印
    9.4.3  RIE轉移
  參考文獻
索引

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