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真空鍍膜技術與應用

  • 作者：編者:陸峰|責編:戴燕紅
  • 出版社：化學工業
  • ISBN：9787122402455
  • 出版日期：2022/03/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：335
人民幣：RMB 138 元      售價：元
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內容大鋼
    本書共9章，主要闡述了真空鍍膜技術應用，具體介紹了近代真空鍍膜方法。內容包括真空蒸發鍍膜，真空濺射鍍膜，真空離子鍍膜，離子束（輔助）沉積，化學氣相沉積的原理、特點、裝置及應用；本書還對所製備薄膜的測量技術、性能分析方法做了詳細的介紹。
    本書適合從事真空鍍膜技術、薄膜與表面工程、材料工程等領域的研究、設計、設備操作及維護工作的技術人員閱讀參考，也可作為真空相關專業的本科生及研究生教材。
作者介紹
編者:陸峰|責編:戴燕紅
目錄
第1章  真空鍍膜技術概論
  1.1  概述
  1.2  影響固體表面結構、形貌及其性能的因素
    1.2.1  原子和分子構成固體物質
    1.2.2  多晶體物質結構
    1.2.3  材料受到的各種應力負荷
    1.2.4  材料加工所帶來的缺陷
    1.2.5  基片表面塗敷硬質薄膜的必要性
  1.3  基片與薄膜的匹配
    1.3.1  基片的表面形貌、熱膨脹係數對薄膜的影響
    1.3.2  基片與薄膜的選擇原則
  1.4  真空鍍膜及其工藝特點和應賦予塗層的功能
  1.5  薄膜的特徵
    1.5.1  薄膜的結構特徵
    1.5.2  金屬薄膜的電導特徵
    1.5.3  金屬薄膜電阻溫度係數特徵
    1.5.4  薄膜的光學特徵
    1.5.5  薄膜的密度特徵
    1.5.6  薄膜的時效變化特徵
  1.6  薄膜的應用
    1.6.1  電子工業用薄膜
    1.6.2  光學工業中應用的各種光學薄膜
    1.6.3  光伏產業中薄膜的應用
    1.6.4  刀具行業中薄膜的應用
    1.6.5  機械、化工、石油等工業中應用的硬質膜、耐蝕膜和潤滑膜
    1.6.6  有機分子薄膜
    1.6.7  民用及食品工業中的裝飾膜和包裝膜
  1.7  真空鍍膜的發展歷程及最新進展
  參考文獻
第2章  真空鍍膜技術基礎
  2.1  真空鍍膜物理基礎
    2.1.1  真空及真空狀態的表徵和測量
    2.1.2  氣體的基本性質
    2.1.3  氣體的流動與流導
    2.1.4  氣體分子與固體表面的相互作用
  2.2  真空鍍膜低溫等離子體基礎
    2.2.1  等離子體及其分類與獲得
    2.2.2  低氣壓下氣體的放電
    2.2.3  低氣壓下氣體放電的類型
    2.2.4  低氣壓下冷陰極氣體輝光放電
    2.2.5  低氣壓非自持熱陰極弧光放電
    2.2.6  低氣壓自持冷陰極弧光放電
    2.2.7  磁控輝光放電
    2.2.8  空心冷陰極輝光放電
    2.2.9  高頻放電
    2.2.10  等離子體宏觀中性特徵及其中性空間強度的判別
  2.3  薄膜的生長與膜結構
    2.3.1  膜的生長過程及影響膜生長的因素
    2.3.2  薄膜的結構及其結構缺陷
  2.4  薄膜的性質及其影響因素

    2.4.1  薄膜的力學性質及其影響因素
    2.4.2  薄膜的電學性質
    2.4.3  薄膜的光學性質及其影響膜折射率的因素
    2.4.4  薄膜的磁學性質
  參考文獻
第3章  真空蒸發鍍膜
  3.1  真空蒸發鍍膜技術
    3.1.1  真空蒸發鍍膜原理及蒸鍍條件
    3.1.2  薄膜材料
    3.1.3  合金膜的蒸鍍
    3.1.4  化合物膜的蒸鍍
    3.1.5  影響真空蒸鍍性能的因素
  3.2  分子束外延技術
    3.2.1  分子束外延生長的基本原理與過程
  ……
第4章  真空濺射鍍膜
第5章  真空離子鍍膜
第6章  離子束沉積與離子束輔助沉積
第7章  化學氣相沉積
第8章  薄膜的測量與監控
第9章  薄膜性能分析

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