CMOS晶元結構與製造技術/集成電路基礎與實踐技術叢書
內容大鋼
本書從CMOS晶元結構技術出發，系統地介紹了微米、亞微米、深亞微米及納米CMOS製造技術，內容包括單阱CMOS、雙阱CMOS、LV/HV兼容CMOS、BiCMOS、LV/HV兼容BiCMOS,以及LV/HV兼容BCD製造技術。除第1章外，全書各章都採用由CMOS晶元主要元器件、製造技術及主要參數所組成的綜合表，從晶元結構出發，利用電腦和相應的軟體，描繪出晶元製造的各工序剖面結構，從而得到製程剖面結構。書中給出了100余種典型CMOS晶元結構，介紹了各種典型製造技術，並描繪出50余種製程剖面結構。深入地了解晶元製程剖面結構，對於電路設計、晶元製造、成品率提升、產品質量提高及電路失效分析等都是十分重要的。
本書技術含量高，非常實用，可作為晶元設計、製造、測試及可靠性等方面工程技術人員的重要參考資料，也可作為微電子專業高年級本科生的教學用書，還可供信息領域其他專業的學生和相關科研人員、工程技術人員參考。
作者介紹
編者:潘桂忠|責編:滿美希
潘桂忠，1959年畢業於南京大學物理學系半導體物理專業，高級工程師，研究生導師，貝嶺微電子公司原技術工程部經理。從事LSI/VLSI設計、工藝技術、晶元結構、電路研製及IC生產長達50余年。
先後負責啟動並運轉三家單位（航天部771所、香港華科、上海貝嶺）引進的LSI生產線，實現了大批量生產；開發並提高了各種工藝技術；研製並生產了各種LSI/VLSI。其中，上海貝嶺LSI大批量生產獲得成功並取得了很好的經濟效益，鄧小平等領導人曾來公司參觀；航天部專用「MOSIC的設計和製造」獲航天部三等功；「S1240電話交換機專用LSI製造、生產和國產化（國家引進重點項目）」分別獲上海市優秀新產品成果一等獎、科學技術進步獎和國家科技進步三等獎。曾參與《超純硅的製備和分析》與《世界IC發展趨勢》的編譯、《實用IC工藝手冊》的編著；發表論文50余篇，並編著《MOS集成電路結構與製造技術》和《MOS集成電路工藝與製造技術》。
目錄
第1章 LSI/VLSI製造基本技術
1.1 基礎工藝技術
1.1.1 基礎工藝技術
1.1.2 工藝製程
1.1.3 工藝一體化
1.2 器件隔離技術
1.2.1 LOCOS隔離
1.2.2 淺槽隔離
1.2.3 PN結隔離
1.3 襯底與阱技術
1.3.1 CMOS工藝與阱的形成
1.3.2 可靠性與阱技術
1.3.3 外延與SOI襯底
1.4 柵與源、漏結的形成技術
1.4.1 柵工藝
1.4.2 源、漏結構的形成
1.4.3 漏極技術
1.5 接觸的形成與多層布線技術
1.5.1 接觸的形成
1.5.2 金屬化系統
1.5.3 多層布線工藝與平坦化技術
1.6 BiCMOS技術
1.7 LV/HV兼容技術
1.7.1 LV/HV兼容CMOS
1.7.2 LV/HV兼容BiCMOS
1.7.3 LV/HV兼容BCD
1.8 MOS集成電路工藝設計
1.8.1 硅襯底參數設計
1.8.2 柵介質材料
1.8.3 柵電極材料
1.8.4 閾值電壓設計
1.8.5 工藝參數設計
1.9 MOS集成電路設計與製造技術關係
1.9.1 晶元結構及其參數
1.9.2 晶元結構技術
1.9.3 晶元製造
第2章 單阱CMOS晶元與製程剖面結構
2.1 P-Well CMOS（A）
2.1.1 晶元平面/剖面結構
2.1.2 工藝技術
2.1.3 工藝製程
2.2 P-Well CMOS（B）
2.2.1 晶元剖面結構
2.2.2 工藝技術
2.2.3 工藝製程
2.3 P-Well CMOS（C）
2.3.1 晶元剖面結構
2.3.2 工藝技術
2.3.3 工藝製程
2.4 HV P-Well CMOS
2.4.1 晶元剖面結構
2.4.2 工藝技術
2.4.3 工藝製程
2.5 N-Well CMOS（A）
2.5.1 晶元平面/剖面結構
2.5.2 工藝技術
2.5.3 工藝製程
2.6 N-Well CMOS（B）
2.6.1 晶元剖面結構
2.6.2 工藝技術
2.6.3 工藝製程
2.7 N-Well CMOS（C）
2.7.1 晶元剖面結構
2.7.2 工藝技術
2.7.3 工藝製程
2.8 HV N-Well CMOS
2.8.1 晶元剖面結構
2.8.2 工藝技術
2.8.3 工藝製程
第3章 雙阱CMOS晶元與製程剖面結構
第4章 LV/HV兼容CMOS晶元與製程剖面結構
第5章 BiCMOS晶元與製程剖面結構
第6章 LV/HV兼容BiCMOS晶元與製程剖面結構
第7章 LV/HV兼容BCD晶元與製程剖面結構
附錄A 術語縮寫對照
附錄B 簡要說明
參考文獻
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