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TFT-LCD技術--結構原理及製造技術/平板顯示技術叢書

  • 作者：申智源|校注:董承遠
  • 出版社：電子工業
  • ISBN：9787121153358
  • 出版日期：2012/01/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：400
人民幣：RMB 68 元      售價：元
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內容大鋼
    《TFT-LCD技術——結構原理及製造技術》比較全面地介紹了薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-LCD)的結構、原理、製造技術以及TFT器件與顯示技術的進展與展望。全書共分4部分。第1部分(第1章)是TFT-LCD技術概要，內容包括：技術發展歷史、液晶顯示器的分類、矩陣式液晶顯示器的工作原理及基本結構。第2部分(第2?6章)介紹了TFT-LCD基礎和顯示特性改善技術，內容包括：液晶的基本物理特性、液晶的顯示模式、TFT結構與工作原理、TFT-LCD結構與顯示原理、TFT-LCD的顯示特性改善(開口率、視角、響應速度以及色偏等)。第3部分(第7?9章)介紹了TFT-LCD面板的製造技術與生產經驗，內容包括：非晶硅TFT-LCD的工藝流程、製造技術、不良檢查與分析以及低溫多晶硅TFT的工藝流程與製造技術。第4部分(第10章)是關於TFT器件及顯示技術的進展與展望，內容包括：有機TFT、氧化物TFT、反射型LCD、三維立體顯示、透明顯示器以及柔性顯示等。
    《TFT-LCD技術——結構原理及製造技術》可作為大專院校的理工科學生、研究生和平板顯示企業工程師的技術入門書，也可供廣大從事TFT-LCD面板設計、工藝開發及產品開發的工程師參考。本書由申智源編著。
作者介紹
申智源|校注:董承遠
目錄
第1章  TFT-LCD技術概要
  1.1  TFT-LCD技術發展歷史
  1.2  液晶顯示器的分類
  1.3  矩陣式液晶顯示器的工作原理
  1.4  TFT-LCD的基本結構
第2章  液晶的基本物理特性
  2.1  液晶的相結構與分類
    2.1.1  向列相(Nematic)液晶
    2.1.2  膽甾相(Cholesteric)液晶
    2.1.3  近晶相(Smetic)液晶
    2.1.4  盤狀(Discotic)液晶
  2.2  液晶的連續彈性體理論
    2.2.1  液晶的彈性能密度
    2.2.2  液晶在電場中的自由能密度
    2.2.3  平衡態下液晶指向矢分佈計算
    2.2.4動態平衡方程
  2.3  弗里德里克斯轉變(Frredericksz Transition)
    2.3.1  展曲形變
    2.3.2  彎曲形變
    2.3.3  扭曲形變
    2.3.4  動態弗里德里克斯效應
  2.4  液晶的表面配向
    2.4.1  表面配向理論
    2.4.2  配向方法
    2.4.3  表面錨定能(Surface Anchoring Energy)
  2.5  液晶指向矢分佈的數值計算方法
    2.5.1  動態平衡方程
    2.5.2  數值計算方法
  2.6  光在液晶顯示器中的傳播
    2.6.1  電動力學基礎
    2.6.2  瓊斯(Jones)矩陣法
第3章  LCD模式及其特性
  3.1  扭曲向列相(Twisted Nematic，TN)模式
    3.1.1  TN模式結構與顯示原理
    3.1.2  閾值特性與液晶指向矢分佈
    3.1.3  光透過率特性
    3.1.4  視角特性
    3.1.5  響應時間特性
  3.2  共面開關(In-Plain Switching，IPS)模式
    3.2.1  IPS模式結構與顯示原理
    3.2.2  閾值特性與液晶指向矢分佈
    3.2.3  光透過率特性
    3.2.4  視角特性
    3.2.5  響應時間特性
  3.3  邊緣場開關(Ffinge-Field Switching，FFS)模式
    3.3.1  FFS模式結構與工作原理
    3.3.2  FFS模式的電場分佈
    3.3.3  光透過率特性
  3.4  垂直取向(Vertical Alignment，VA)模式
    3.4.1  VA模式結構與顯示原理

    3.4.2  閾值特性
    3.4.3  光透過率特性
    3.4.4  視角特性
    3.4.5  響應時間特性
第4章  TFT結構與工作原理
  4.1  半導體器件基礎
    4.1.1  金屬-半導體(MS)接觸
    4.1.2  MOS電容
    4.1.3  MOSFET
  4.2  薄膜晶體管
    4.2.1  TPr與MOSFET比較
    4.2.2  薄膜晶體管的工作原理
    4.2.3  薄膜晶體管的特性參數
  4.3  非晶硅TFT
    4.3.1  非晶硅的物理特性
    4.3.2  非晶硅TFT結構
    4.3.3  a-Si：H TFT的工作特性
  4.4.多晶硅TFT
    4.4.1  多晶硅的物理特性
    4.4.2  低溫多晶硅TFT結構
    4.4.3  低溫多晶硅TFT的工作特性
第5章  TFT-LCD面板結構與顯示原理
  5.1  TFT-LCD面板結構
    5.1.1  TFT-array基板結構
    5.1.2  CF基板結構
  5.2  TFT-LCD的工作原理
    5.2.1  單位像素的工作原理
    5.2.2   TFT-CD面板的工作原理
  5.3  灰階與彩色顯示原理
    5.3.1  灰階(Gray Scale)顯示原理
    5.3.2  彩色顯示原理
    5.3.3  彩色顯示方法及基本特性
  5.4  影響TFT-LCD顯示特性的因素
    5.4.1  TFT結構的寄生電容
    5.4.2  掃描線的RC延遲
    5.4.3  液晶盒的漏電流
第6章  TFT-LCD顯示特性改善技術
  6.1  開口率
    6.1.1  TFT-LCD的開口率
    6.1.2  高開口率TFT-LCD
  6.2  視角(Viewing Angle)
    6.2.1  多疇配向結構
    6.2.2  S-IPS模式與UFFS模式
    6.2.3  MVA模式與PvA模式
  6.3  響應時間
    6.3.1  灰階間響應時間(Gray To Gray，GTG)
    6.3.2  過驅動(Over Drive)技術
    6.3.3  預傾角電壓技術
  6.4  移動圖像響應特性
    6.4.1  拖影現象

    6.4.2  液晶的響應時間引起的拖影現象
    6.4.3  人的視覺系統引起的拖影現象
    6.4.4  移動圖像響應時間
    6.4.5  減輕拖影現象的技術
  6.5  精確顯示色彩(Accurate Color Capture，ACC)技術
  6.6  色序法
  6.7  光學補償彎曲(Optically Compensated Bend，OCB)模式
    6.7.1  OCB模式的結構
    6.7.2  視角特性
    6.7.3  響應時間特性
第7章  非晶硅TFT-LCD工藝流程與製造技術
  7.1  TFT-array與DRAM比較
  7.2  TFT-array基板製作
  7.3  TFT-array製造技術
    7.3.1  清洗技術
    7.3.2  濺射技術
    7.3.3  PECVD成膜技術
    7.3.4  塗膠/曝渺顯影(Photolithography)技術
    7.3.5  濕刻技術
    7.3.6  干刻技術
    7.3.7  光刻膠剝離技術
    7.3.8  退火技術
    7.3.9  工程檢查技術
  7.4  4Mask工藝一
    7.4.1  4Mask工藝思路
    7.4.2  半曝光技術
    7.4.3  4Mask工藝流程與工藝參數
  7.5  CF製造技術
    7.5.1  Cy製造技術分類
    7.5.2  彩膜基板製作
  7.6  成盒製造技術
    7.6.1  配向膜塗敷
    7.6.2  配向膜摩擦(Rubbing)
    7.6.3  制盒技術
    7.6.4  切斷工程
    7.6.5  面板顯示檢查(簡稱P檢)
    7.6.6  偏振片貼附技術
  7.7  模塊(Module)製造技術
第8章  非晶硅TFT-LCD不良檢查與分析
  8.1  不良檢查
    8.1.1  Array工程檢查
    8.1.2  Array工程檢查設備
    8.1.3  Array工程修復設備
  8.2  不良分析方法
    8.2.1  顯示推理法
    8.2.2  圖片分析法
    8.2.3  數據分析法
    8.2.4  解析法
  8.3  不良發生原因
    8.3.1  Array工程

    8.3.2  成盒工程
  8.4  不良分析案例
    8.4.1  D圖形異常
    8.4.2  漏光
    8.4.3  蟲蝕C斷
    8.4.4  縱筋不均
第9章  低溫多晶硅TFT工藝流程與製造技術
  9.1  低溫多晶硅TFT-LCD與非晶硅TFT-LCD比較
  9.2  低溫多晶硅TFT-array工藝流程
  9.3  低溫多晶硅TFT製造技術
    9.3.1  脫氫處理
    9.3.2  多晶硅薄膜製作技術
    9.3.3  氧化層形成技術
    9.3.4  離子注入技術
    9.3.5  離子激活技術
  9.4  PMOS LTPS技術
第10章  TFT器件及顯示技術的進展與展望
  10.1  有機TFT(Organic TFT，OTFT)
    10.1.1  導電性有機物的導電機理
    10.1.2  有機TFT的製作
    10.1.3  有機TFT的應用以及未來展望
  10.2  氧化物TFT
    10.2.1  氧化物半導體的導電機理
    10.2.2  氧化物半導體製作
    10.2.3  氧化物TFT的應用以及未來展望
  10.3  反射型與半反半透型LCD
    10.3.1  反射型LCD
    10.3.2  半反半透(Transflective)模式
  10.4  三維(3D：Three Dimension)立體顯示
    10.4.1  三維立體顯示分類以及工作原理
    10.4.2  三維立體顯示的未來展望
  10.5  透明顯示器
    10.5.1  透明顯示產品簡介
    10.5.2  透明顯示器的今後研究方向
  10.6  柔性顯示技術
    10.6.1  柔性顯示器的分類
    10.6.2  柔性基板
    10.6.3  驅動器件
    10.6.4  顯示模式
附錄A  TFT-LCD用玻璃
附錄B  常用氣體特性
附錄C  常用化學材料特性
附錄D  TFT-LCD生產用材料規格
參考文獻
中文索引
英文索引

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