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电子材料大气腐蚀行为与机理
所属分类:
电子电脑
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电工无线电自动化
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无线电电子.电讯
作者:
编者:肖葵//邹士文//董超芳//李晓刚
出版社:
化学工业
本书详细介绍了电子材料在各类环境中的腐蚀特 征,透彻分析了污染物、颗粒物、电场和磁场等对电 子材料腐蚀行为的影响和腐蚀机制,以及PCB的腐蚀行 为与机理;建立了多因素作用下电子材料腐蚀失效规 律和理论模型,为电子设备系统中电子电路和电子元 器件的选材、设计、制造、防护和维修等提供理论指 导。 本书适合从事材料腐蚀与防护、表面技术以及电 子材料相关研究的技术人员、师生阅读参考。
人民币:
RMB 88.00
元 售价:
NT$ 352.00
元
安徽省电网土壤腐蚀等级地图
所属分类:
电子电脑
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电工无线电自动化
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电工技术
作者:
编者:张洁//缪春辉|责编:张择瑞
出版社:
合肥工业大学
为全面掌握安徽电网区 域土壤腐蚀等级,为不同土 壤腐蚀环境下的电网设备差 异化防腐设计提供数据支撑 ,本书针对全省变电站的土 壤环境进行调查研究,主要 通过标准土壤腐蚀实验,开 展输变电工程土壤环境下的 现场选点、埋样工作,到期 对现场埋样腐蚀速率进行收 集,进而绘制安徽省电网土 壤土壤等级地图。安徽省电 网土壤腐蚀分级地图的绘制 工作,可以有效开展差异化 防腐蚀设计,制定有效的防 腐蚀措施,对确保电网设备 的安全稳定运行起着至关重 要的作用。
人民币:
RMB 48.00
元 售价:
NT$ 192.00
元
等离子体刻蚀工艺及设备(精)/集成电路系列丛书
所属分类:
电子电脑
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电工无线电自动化
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无线电电子.电讯
作者:
编者:赵晋荣|责编:柴燕|总主编:王阳元
出版社:
电子工业
丛书项:
集成电路系列丛书
本书以集成电路领域中 的等离子体刻蚀为切入点, 介绍了等离子体基础知识、 基于等离子体的刻蚀技术、 等离子体刻蚀设备及其在集 成电路中的应用。全书共8 章,内容包括集成电路简介 、等离子体基本原理、集成 电路制造中的等离子体刻蚀 工艺、集成电路封装中的等 离子体刻蚀工艺、等离子体 刻蚀机、等离子体测试和表 征、等离子体仿真、颗粒控 制和量产。本书对从事等离 子体刻蚀基础研究和集成电 路工厂产品刻蚀工艺调试的 人员均有一定的参考价值。 本书适合相关领域的大 专院校、研究所以及科技型 公司的师生、科研人员和工 程师等专业人员,以及对集 成电路产业感兴趣的社会各 界人士阅读参考。
人民币:
RMB 98.00
元 售价:
NT$ 392.00
元
电厂设备的腐蚀与控制(能源动力类专业普通高等教育十二五系列教材)
所属分类:
电子电脑
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电工无线电自动化
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电工技术
作者:
编者:陈颖敏
出版社:
中国电力
本书主要叙述了金属腐 蚀与控制的基本理论和规 律以及电厂热力设备的腐 蚀及其控制方法,系统地 介绍了金属腐蚀与控制的 基本理论,包括金属腐蚀 热力学和动力学原理、析 氢腐蚀和耗氧腐蚀、金属 钝化、局部腐蚀、高温腐 蚀;介绍了热力设备腐蚀 与控制方法,包括热力设 备的氧腐蚀和酸性腐蚀、 锅炉的腐蚀与控制、凝汽 器的腐蚀与控制等。此外 ,本书还介绍了核电设备 的腐蚀与控制。 本书可作为普通高等院 校本科环境工程、应用化 学工程、水质科学与工程 专业教材,也可作为工程 技术人员的参考书。
人民币:
RMB 46.00
元 售价:
NT$ 184.00
元
半导体干法刻蚀技术(原子层工艺)/集成电路科学与工程丛书
所属分类:
电子电脑
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电工无线电自动化
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无线电电子.电讯
作者:
(美)索斯藤·莱尔|责编:刘星宁|译者:丁扣宝
出版社:
机械工业
丛书项:
集成电路科学与工程丛书
集成电路制造向几纳米 节点工艺的发展,需要具有 原子级保真度的刻蚀技术, 原子层刻蚀(ALE)技术应 运而生。本书主要内容有: 热刻蚀、热各向同性ALE、 自由基刻蚀、定向ALE、反 应离子刻蚀、离子束刻蚀等 ,探讨了尚未从研究转向半 导体制造的新兴刻蚀技术, 涵盖了定向和各向同性ALE 的最新研究和进展。本书以 特定的刻蚀应用作为所讨论 机制的示例,例如栅极刻蚀 、接触孔刻蚀或3D NAND 通道孔刻蚀,有助于对所有 干法刻蚀技术的原子层次理 解。 本书概念清晰,资料丰 富,内容先进,可作为微电 子学与固体电子学、电子科 学与技术、集成电路科学与 工程等专业的研究生和高年 级本科生的教学参考书,也 可供相关领域的工程技术人 员参考。
人民币:
RMB 119.00
元 售价:
NT$ 476.00
元
半导体干法刻蚀技术(原书第2版)/集成电路科学与工程丛书
所属分类:
电子电脑
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电工无线电自动化
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无线电电子.电讯
作者:
(日)野尻一男|责编:刘星宁//闾洪庆|译者:王文武//许恒宇//王盛凯//李俊杰//王彩萍等
出版社:
机械工业
丛书项:
集成电路科学与工程丛书
本书是一本全面系统的 干法刻蚀技术论著。针对干 法刻蚀技术,在内容上涵盖 了从基础知识到最新技术, 使初学者能够了解干法刻蚀 的机理,而无需复杂的数值 公式或方程。本书不仅介绍 了半导体器件中所涉及材料 的刻蚀工艺,而且对每种材 料的关键刻蚀参数、对应的 等离子体源和刻蚀气体化学 物质进行了详细解释。本书 讨论了具体器件制造流程中 涉及的干法刻蚀技术,介绍 了半导体厂商实际使用的刻 蚀设备的类型和等离子体产 生机理,例如电容耦合型等 离子体、磁控反应离子刻蚀 、电子回旋共振等离子体和 电感耦合型等离子体,并介 绍了原子层沉积等新型刻蚀 技术。
人民币:
RMB 89.00
元 售价:
NT$ 356.00
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