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高分辨電子束光刻技術及其應用(精)

  • 作者：段輝高//梁惠康//陳藝勤|責編:牛旭東
  • 出版社：國防工業
  • ISBN：9787118142563
  • 出版日期：2026/06/01
  • 裝幀：精裝
  • 頁數：311
人民幣：RMB 149 元      售價：元
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內容大鋼
    電子束光刻具有極高的加工精度及無掩模直寫的靈活性，在高精度模板製備、微納器件的原型開發及小批量定製、微納米科技的基礎研究中具有不可替代的作用。本書從裝備、工藝、材料、應用四個方面向讀者系統地介紹了電子束光刻技術及相關應用，引用了很多國內外科研團隊及作者團隊開發的微納加工工藝及器件應用實例，希望能對讀者有所啟發。
    本書可供高等院校的高年級本科生、研究生和青年教師，以及器件設計研發和微納製造工程師參考。
作者介紹
段輝高//梁惠康//陳藝勤|責編:牛旭東
目錄
第1章  緒論
  1.1  概述
  1.2  電子束光刻不可替代的應用
  1.3  電子束光刻的發展歷程
  1.4  電子束光刻設備分類
    1.4.1  高斯束電子束光刻設備
    1.4.2  變形束電子束光刻設備
    1.4.3  多束電子束光刻設備
  1.5  電子束光刻的發展趨勢
  1.6  國內電子束光刻技術發展現狀
  1.7  本書的內容安排
第2章  電子束光刻系統的原理及組成
  2.1  引言
  2.2  電子槍
    2.2.1  電子槍陰極的工作原理
    2.2.2  電子槍陰極材料
    2.2.3  電子束的形成
  2.3  電子光學柱
    2.3.1  電子在電磁場中的運動
    2.3.2  電子透鏡
    2.3.3  偏轉器
    2.3.4  電子光學柱的對中系統
    2.3.5  束閘
    2.3.6  消像散器
    2.3.7  電子光學柱的像差
  2.4  工件台
    2.4.1  工件台中的精密測量技術
    2.4.2  工件台中的高速、高精度直線驅動技術
    2.4.3  高精密工件台技術中的控制技術
  2.5  圖形發生器
    2.5.1  電子束掃描曝光技術
    2.5.2  圖形發生器的組成
    2.5.3  電子束曝光中的版圖格式與繪製
  2.6  電子束光刻中的真空技術
    2.6.1  真空技術在電子束光刻系統中的作用
    2.6.2  電子束光刻系統中的真空設備
  2.7  電子束光刻系統的運行環境
    2.7.1  安裝地點的選擇
    2.7.2  防震和防磁
    2.7.3  環境雜訊
    2.7.4  超凈間
    2.7.5  室內溫度、濕度和排氣
    2.7.6  供電源
    2.7.7  接地
第3章  電子束光刻材料相互作用及鄰近效應模擬
  3.1  電子在材料中的散射
    3.1.1  彈性散射
    3.1.2  非彈性散射
  3.2  電子輻照損傷
    3.2.1  位移損傷

    3.2.2  電離損傷
  3.3  電子能量在材料中的沉積模擬
    3.3.1  能量沉積模型
    3.3.2  點擴散函數的實驗參數獲取與優化
    3.3.3  版圖中的能量沉積分佈
  3.4  電子束光刻中的鄰近效應及其校正
    3.4.1  電子束光刻中的鄰近效應
    3.4.2  鄰近效應校正方法
  3.5  電子束光刻中的其他效應模型
    3.5.1  抗蝕劑熱效應
    3.5.2  霧化效應
    3.5.3  電荷積累效應
  3.6  鄰近效應校正軟體
第4章  電子束抗蝕劑及工藝
  4.1  電子束抗蝕劑分類及性能評價
    4.1.1  電子束抗蝕劑的分類
    4.1.2  電子束抗蝕劑性能評價
  4.2  電子束抗蝕劑的工藝流程
    4.2.1  電子束抗蝕劑勻膠前的預處理
    4.2.2  電子束抗蝕劑勻膠
    4.2.3  電子束抗蝕劑熱處理
    4.2.4  電子束抗蝕劑曝光
    4.2.5  電子束抗蝕劑顯影
    4.2.6  電子束抗蝕劑顯影結果評價
  4.3  電子束抗蝕劑顯影工藝力學及顯影優化
    4.3.1  電子束抗蝕劑中的顯影機理及模型
    4.3.2  電子束抗蝕劑中的力學穩定性
    4.3.3  高分辨電子束光刻的顯影優化
  4.4  典型的電子束抗蝕劑及工藝
    4.4.1  PMMA及工藝
    4.4.2  ZEP及工藝
    4.4.3  HSQ及工藝
    4.4.4  電子束用化學放大膠及工藝
    4.4.5  其他常規電子束抗蝕劑
  4.5  非常規電子束抗蝕劑及工藝
    4.5.1  生物基抗蝕劑
    4.5.2  水基抗蝕劑
    4.5.3  冰抗蝕劑
    4.5.4  無機抗蝕劑
第5章  基於電子束光刻的圖形轉移工藝
  5.1  引言
  5.2  圖形轉移工藝的分類
    5.2.1  剝離工藝
    5.2.2  生長工藝
    5.2.3  填充拋光工藝
    5.2.4  刻蝕工藝
    5.2.5  轉印技術
  5.3  三維抗蝕劑圖形轉移工藝
    5.3.1  懸空抗蝕劑剝離工藝
    5.3.2  雙層膠HSQ三維結構製備

    5.3.3  單層HSQ自對準三維結構製備
  5.4  填充－拋光工藝
    5.4.1  負膠填充－拋光工藝
    5.4.2  正膠填充－拋光工藝
  5.5  電子束線描輪廓光刻
    5.5.1  HSQ封閉輪廓光刻
    5.5.2  HSQ半封閉輪廓光刻
    5.5.3  PMMA輪廓光刻
    5.5.4  可剝離PMMA輪廓光刻
  5.6  轉印技術
    5.6.1  無黏附金屬結構剝離轉移工藝
    5.6.2  無損轉印抗蝕劑輔助光刻工藝
第6章  電子束光刻的應用
  6.1  等離激元基礎研究
    6.1.1  納米尺度的電動力學驗證
    6.1.2  等離激元調製光致發光機理研究
    6.1.3  密集金屬納米間隙的等離激元共振研究
    6.1.4  等離激元納米天線近場電場強度測量
    6.1.5  對稱性破缺等離激元結構研究
    6.1.6  磁光結構中的光頻旋磁特性驗證
  6.2  結構色器件
    6.2.1  納米尺度的灰度列印
    6.2.2  光學衍射極限下的全彩色列印
    6.2.3  動態彩色結構色器件
    6.2.4  像素z軸可調的結構色器件
  6.3  平面光學器件
    6.3.1  超構透鏡
    6.3.2  新型顯示
    6.3.3  光計算
  6.4  其他器件應用
    6.4.1  超高頻聲表波器件
    6.4.2  高密度磁存儲器件
參考文獻

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