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光學鏡面離子束修形理論工藝與裝備

  • 作者：周林|責編:閆悅
  • 出版社：科學
  • ISBN：9787030826626
  • 出版日期：2025/10/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：144
人民幣：RMB 128 元      售價：元
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內容大鋼
    本書詳細介紹了作者自博士課題研究以來，對光學鏡面離子束修形理論、工藝與裝備的研究成果。主要內容包括離子束去除函數的建模與分析、離子束修形駐留時間求解演算法與優化、離子束修形能力分析、離子束修形工藝中的誤差分析、離子束修形工藝優化、離子束修形試驗、離子束修形裝備等。本書理論結合實際，系統性好，實踐性強。
    本書可供從事先進光學加工、超精密拋光等領域研究與應用的科技人員參考，也適合大專院校相關專業老師和研究生閱讀。
作者介紹
周林|責編:閆悅
目錄
序
前言
第1章  緒論
  1.1  研究背景與意義
  1.2  國內外研究現狀
    1.2.1  光學鏡面拋光方法
    1.2.2  離子束修形技術
  1.3  本書主要內容
  參考文獻
第2章  離子束修形去除函數建模與分析
  2.1  去除函數理論建模與分析
    2.1.1  去除函數理論建模
    2.1.2  去除函數特性分析
  2.2  去除函數試驗模型與估計
    2.2.1  去除函數試驗模型
    2.2.2  去除函數估計
  2.3  去除函數試驗
    2.3.1  試驗設備簡介
    2.3.2  去除函數形狀試驗
    2.3.3  去除函數穩定性試驗
    2.3.4  去除函數保形性試驗
  2.4  本章小結
  參考文獻
第3章  離子束修形駐留時間求解與優化
  3.1  線性方程組方法
    3.1.1  CEH模型
    3.1.2  TSVD演算法
    3.1.3  參數優化
    3.1.4  模擬研究
  3.2  迭代方法
    3.2.1  脈衝迭代法
    3.2.2  邊緣效應控制
    3.2.3  參數優化
    3.2.4  模擬研究
  3.3  本章小結
  參考文獻
第4章  離子束修形能力分析
  4.1  修形能力評價指標
  4.2  高斯型去除函數的修形能力
    4.2.1  理論分析
    4.2.2  模擬研究
    4.2.3  離子束修形能力討論
  4.3  任意形狀去除函數的修形能力
    4.3.1  一般情況
    4.3.2  常見情況
  4.4  修形能力試驗
    4.4.1  一維去除函數試驗
    4.4.2  正弦面形刻蝕試驗
  4.5  本章小結
  參考文獻

第5章  離子束修形誤差分析
  5.1  定位誤差影響分析
    5.1.1  理論分析
    5.1.2  模擬研究
  5.2  去除函數誤差影響分析
    5.2.1  基本影響方程
    5.2.2  面形收斂比影響
  5.3  本章小結
  參考文獻
第6章  離子束修形工藝優化
  6.1  定位工藝優化
    6.1.1  定位工藝優化方法
    6.1.2  定位工藝優化試驗
  6.2  進給工藝優化
  6.3  加工路徑優化
    6.3.1  等面積增長螺旋線路徑
    6.3.2  非均勻路徑上駐留時間的求解方法
  6.4  本章小結
  參考文獻
第7章  光學鏡面離子束修形試驗
  7.1  試驗設備簡介
  7.2  Φ100mm平面鏡修形試驗
    7.2.1  樣鏡1修形試驗
    7.2.2  樣鏡2修形試驗
    7.2.3  樣鏡3修形試驗
  7.3  SiC異型平面鏡修形
  7.4  Φ200mm球面鏡修形
  7.5  Φ200mm拋物面鏡修形
    7.5.1  第一階段修形
    7.5.2  第二階段修形
  7.6  本章小結
  參考文獻
第8章  離子束修形裝備
  8.1  離子束修形加工布局
    8.1.1  工件倒掛式加工布局
    8.1.2  工件側立式加工布局
  8.2  離子束修形高精度工件定位
    8.2.1  基於三坐標測頭和法拉第杯的離子束修形高精度工件定位
    8.2.2  任意麵形位姿檢測
  8.3  本章小結
第9章  總結與展望
  9.1  全書總結
  9.2  研究展望
附錄  駐留時間求解

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