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先進表徵方法與技術(雙色印刷納米材料與技術系列教材戰略性新興領域十四五高等教育系列教材)

  • 作者：編者:王榮明//段嗣斌//姜乃生//彭開武|責編:丁昕禎//王榮|總主編:張躍
  • 出版社：機械工業
  • ISBN：9787111776369
  • 出版日期：2024/12/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：234
人民幣：RMB 58 元      售價：元
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內容大鋼
    本書內容主要包括先進透射電子顯微術，聚焦離子束技術，同步輻射光源、中子源及表徵技術，先進譜學技術等先進表徵技術和手段，並通過豐富的實驗案例和前沿研究成果，展示先進材料表徵方法和技術在納米科技領域中的具體應用。
    本書適合作為納米科技、材料科學和相關專業的高年級本科生和研究生的教材，同時也適合作為材料學、納米科學、凝聚態物理、化學等相關領域研究人員和專業人士的參考書籍。
作者介紹
編者:王榮明//段嗣斌//姜乃生//彭開武|責編:丁昕禎//王榮|總主編:張躍
目錄
前言
第1章  材料表徵的物理基礎和基本方法
  1.1  晶體學基礎
    1.1.1  晶體的微觀特徵
    1.1.2  晶體的結構對稱性
    1.1.3  倒易點陣
  1.2  電磁波、粒子束與物質相互作用基礎
    1.2.1  光子與物質的相互作用
    1.2.2  電子束與物質的相互作用
  1.3  衍射表徵技術
    1.3.1  X射線衍射
    1.3.2  中子衍射
  1.4  顯微表徵技術
    1.4.1  光學顯微術
    1.4.2  透射電子顯微術
    1.4.3  掃描電子顯微術
    1.4.4  掃描探針顯微術
  1.5  譜學表徵技術
    1.5.1  紫外-可見-近紅外吸收光譜
    1.5.2  傅里葉變換紅外光譜
    1.5.3  熒光光譜
    1.5.4  拉曼光譜
    1.5.5  X射線光電子能譜
  思考題
  參考文獻
第2章  先進透射電子顯微術
  2.1  像差校正電子顯微術
    2.1.1  TEM中的像差
    2.1.2  像差校正原理與技術
  2.2  定量電子顯微分析
    2.2.1  圖像處理
    2.2.2  常見圖像處理技術
    2.2.3  應用
  2.3  原位電子顯微術
    2.3.1  原位電子顯微術原理
    2.3.2  原位技術應用
  2.4  單原子成像技術
    2.4.1  單原子成像發展歷史
    2.4.2  單原子成像技術基礎
    2.4.3  單原子成像技術及其譜學應用方法
  2.5  洛倫茲透射電鏡
    2.5.1  洛倫茲電子顯微術磁疇成像原理
    2.5.2  洛倫茲菲涅爾模式磁疇結構解析方法
    2.5.3  離軸電子全息磁疇成像原理及方法
    2.5.4  微分相位襯度技術磁疇成像原理及方法
  思考題
  參考文獻
第3章  聚焦離子束技術
  3.1  聚焦離子束系統結構
    3.1.1  離子源

    3.1.2  離子光學柱體
    3.1.3  探測器和分析附件
    3.1.4  其他附件
  3.2  離子束與固體的相互作用
    3.2.1  離子束與固體的相互作用機理
    3.2.2  離子束、電子束與固體的相互作用機理異同
  3.3  聚焦離子束功能
    3.3.1  成像
    3.3.2  刻蝕
    3.3.3  沉積
  3.4  應用實例
    3.4.1  透射電鏡(TEM)樣品製備
    3.4.2  三維原子探針(3DAP/APT)製備
    3.4.3  截面分析
    3.4.4  三維重構
    3.4.5  微納加工
  3.5  發展中的聚焦離子束系統
    3.5.1  硬體性能提升
    3.5.2  軟體功能多樣化
    3.5.3  與其他附件/設備的聯用
  思考題
  參考文獻
第4章  同步輻射光源、中子源及表徵技術
  4.1  同步輻射光源與中子源
    4.1.1  X射線與中子的基本性質
    4.1.2  同步輻射光源
    4.1.3  中子源
    4.1.4  當代設備和技術進展
  4.2  X射線衍射（XRD）
    4.2.1  X射線衍射的基本原理
    4.2.2  實驗方法與數據分析
    4.2.3  案例研究與最新進展
  4.3  X射線吸收精細結構譜（XAFS）
    4.3.1  X射線吸收精細結構譜（XAFS）的基本原理
    4.3.2  X射線吸收精細結構譜（XAFS）的實驗方法
    4.3.3  X射線吸收精細結構譜（XAFS）的數據分析和案例研究
  4.4  小角散射（SAS）
    4.4.1  小角散射的基本原理
    4.4.2  實驗方法與數據分析
    4.4.3  案例研究與最新進展
  4.5  反射技術
    4.5.1  X射線/中子反射理論的原理
    4.5.2  中子反射的特性
    4.5.3  實驗方法與數據分析
    4.5.4  案例研究與最新進展
  思考題
  參考文獻
第5章  先進譜學技術
  5.1  原位X射線光電子能譜
    5.1.1  引言

    5.1.2  X射線光電子能譜的基本原理
    5.1.3  X射線光電子能譜的定性和定量分析方法
    5.1.4  原位X射線光電子能譜儀
  5.2  先進拉曼光譜學
    5.2.1  拉曼光譜的原理與發展
    5.2.2  先進拉曼光譜技術
    5.2.3  拉曼光譜表徵技術的應用
  5.3  原位傅里葉變換紅外光譜
    5.3.1  引言
    5.3.2  原位傅里葉變換紅外光譜基礎
    5.3.3  原位傅里葉變換紅外光譜儀
    5.3.4  原位傅里葉變換紅外光譜應用實例
  5.4  超快光譜學
    5.4.1  引言
    5.4.2  飛秒-瞬態吸收光譜
    5.4.3  超快時間分辨熒光光譜
  5.5  單顆粒光譜學
    5.5.1  提供單顆粒信息的基本方法
    5.5.2  單顆粒光譜學表徵實例
    5.5.3  單顆粒光譜學前景和挑戰
  5.6  其他先進譜學技術
    5.6.1  正電子湮沒譜學
    5.6.2  二次諧波
  思考題
  參考文獻
總結與展望  納米材料和器件表徵的挑戰和方向

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