全書分三部分，共21章。第一部分共3章（第1?3章）：電沉積原理、裝備和工藝簡介、電沉積有關理論問題、電沉積材料的性能及其應用領域。第二部分共6章（第4?9章）：表徵電沉積材料化學成分的主要測試分析方法（4?5章）、表徵電沉積材料結構的主要射線衍射測試分析方法（第6?8章）、表徵電沉積材料顯微組織的主要測試分析方法（第9章）。第三部分共11章（第10?20章），選擇若干具有典型性、代表性的電沉積材料的製備、性能和現代測試分析與表徵，以此示例。第21章「電沉積材料研究的新進展和展望」是全書的總結。
    本書適合作為材料學等專業的高年級本科生、研究生的教學用書，也可供相關專業的科研人員參考使用。

姜傳海//趙遠濤//楊傳錚|責編:劉鳳娟//楊探

前言
第一篇　電沉積的一般原理、設備和相關理論概述
  第1章  電沉積原理和工藝概述
    1.1  沉積方法一般介紹
      1.1.1  物理沉積方法
      1.1.2  化學沉積方法
      1.1.3  電沉積和電化學沉積
    1.2  各種電沉積方法
      1.2.1  直流電沉積法原理
      1.2.2  脈衝電沉積方法
      1.2.3  噴射電沉積方法
      1.2.4  電刷鍍複合電沉積
      1.2.5  超聲波電沉積
    1.3  複合電沉積原理與方法
      1.3.1  複合電沉積的原理和特點
      1.3.2  複合電沉積層中固體微粒含量的表示方法
      1.3.3  複合電沉積層中固體微粒含量的測定
    1.4  電沉積的主要設備
      1.4.1  實驗室電沉積設備
      1.4.2  工廠生產企業的電沉積裝置
    1.5  電沉積金屬/合金材料分類
      1.5.1  電沉積單金屬材料
      1.5.2  電沉積合金材料
    1.6  電沉積複合材料的分類
      1.6.1  按構成複合沉積層的組分分類
      1.6.2  功能性複合電沉積層材料
      1.6.3  依據複合沉積層組分所起作用的地位分類
    1.7  電沉積納米材料
    1.8  關於電極材料和電沉積液的討論
      1.8.1  關於陰極和陽極材料的討論
      1.8.2  電沉積液問題
      1.8.3  電沉積溶液的類型
      1.8.4  電沉積過程中各種因素的相互關係
    參考文獻
  第2章  金屬/合金的電沉積和複合電沉積理論概要
    2.1  金屬離子還原的可能性和合金共沉積的條件
      2.1.1  金屬離子還原的可能性
      2.1.2  合金共沉積的條件
    2.2  金屬電結晶的基本歷程
      2.2.1  金屬離子在電解液中的存在形式
      2.2.2  通電時金屬離子的放電歷程
    2.3  金屬配離子還原時的極化
      2.3.1  配合物中金屬離子的濃度
      2.3.2  金屬配離子還原時的陰極極化
      2.3.3  配合劑種類的影響
      2.3.4  金屬離子濃度的影響
      2.3.5  遊離配位劑的影響
    2.4  結晶的吸附原子表面擴散控制和晶核的形成與長大
      2.4.1  結晶的吸附原子表面擴散控制
      2.4.2  晶核的形成

      2.4.3  晶核長大
    2.5  電沉積金屬的形態和織構
      2.5.1  電結晶的主要形態
      2.5.2  電沉積的外延與結晶取向
    2.6  合金共沉積理論
      2.6.1  合金共沉積的類型
      2.6.2  金屬共沉積理論
    2.7  複合電沉積層共沉積機理
      2.7.1  複合電沉積的基本原理
      2.7.2  描述複合電沉積給出的數學模型
      2.7.3  影響複合電沉積的因素
    2.8  脈衝電沉積理論
      2.8.1  脈衝電沉積的基本原理
      2.8.2  脈衝電沉積中金屬的電結晶
      2.8.3  脈衝電沉積中雙電層的充放電影響
      2.8.4  脈衝電沉積中的擴散傳質
      2.8.5  脈衝電沉積中的電流分佈
    2.9  對脈衝複合電沉積的影響因素
      2.9.1  電解液體系對脈衝複合電沉積的影響
      2.9.2  脈衝工藝對脈衝複合電沉積的影響
      2.9.3  納米顆粒對脈衝複合電沉積的影響
    參考文獻
  第3章  電沉積材料的性能測試與表徵
    3.1  引言
    3.2  硬度的測試方法——靜載壓入法
      3.2.1  硬度的定義和測試特點
      3.2.2  維氏硬度
      3.2.3  顯微維氏硬度
      3.2.4  努氏硬度
      3.2.5  洛氏硬度和表面洛氏硬度
      3.2.6  布氏硬度
    3.3  電沉積層的力學性能物理方法測試
      3.3.1  表面布里淵散射方法
      3.3.2  表面聲波法
      3.3.3  聲顯微學
      3.3.4  微壓入法
    3.4  電沉積層力學性能的X射線衍射分析
    3.5  沉積層耐腐蝕性能的測試
      3.5.1  鹽霧試驗
      3.5.2  腐蝕膏試驗
      3.5.3  周期浸潤腐蝕試驗
      3.5.4  通常凝露條件下二氧化硫試驗
      3.5.5  電解腐蝕試驗
      3.5.6  硫化氫試驗
      3.5.7  硫代乙?胺腐蝕試驗
      3.5.8  濕熱試驗
    3.6  電沉積層耐腐蝕性能的電化學測試
      3.6.1  極化曲線法
      3.6.2  電化學阻抗譜技術
    3.7  電沉積層厚度的測定

    17.2  電沉積銅納米沉積層
      17.2.1  製備工藝
      17.2.2  添加劑的影響
      17.2.3  脈衝參數的影響
      17.2.4  電解液溫度的影響
      17.2.5  pH的影響
    17.3  電沉積鉻層納米結構及其熱穩定性研究
      17.3.1  電沉積工藝、條件和退火處理
      17.3.2  沉積鉻層形貌觀察
      17.3.3  沉積層與基體間的互擴散
      17.3.4  沉積層的XRD分析
      17.3.5  沉積層組織的TEM分析
      17.3.6  顯微硬度變化
    17.4  電沉積納米Ni-Fe二元合金和Ni-Fe-Co三元合金沉積層
      17.4.1  電沉積納米Ni-Fe二元合金沉積層
      17.4.2  電沉積納米Co-Ni-Fe三元合金沉積層
    17.5  電沉積半導體納米Ag7Te4合金
    17.6  電沉積納米SnO2及其表徵
    參考文獻
  第18章  脈衝電沉積(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)顆粒納米材料及其測試分析與研究
    18.1  實驗研究方法及步驟
      18.1.1  電沉積液的組成及工藝條件
      18.1.2  實驗設備及參數選擇
      18.1.3  製備工藝流程
    18.2  電解液組成和工藝條件對(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積的影響
      18.2.1  電解液組成對(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積的影響
      18.2.2  工藝條件對(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積的影響
    18.3  脈衝參數對(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積的影響
      18.3.1  單脈衝參數對(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積的影響
      18.3.2  雙脈衝參數對(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積的影響
    18.4  (Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料脈衝電沉積初期生長行為
      18.4.1  不同脈衝電沉積時間下的成分分析
      18.4.2  不同脈衝電沉積時間下的表面形貌
    18.5  (Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米顆粒增強複合材料的脈衝電沉積機理
      18.5.1  電解液體系對脈衝複合電沉積的影響
      18.5.2  脈衝工藝對脈衝複合電沉積的影響
      18.5.3  納米顆粒對脈衝複合電沉積的影響
      18.5.4  雙脈衝電沉積機理
    18.6  電沉積(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料的結晶化過程及界面結合方式
      18.6.1  (Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)納米複合材料結晶化過程的研究
      18.6.2  界面顯微組織、元素分佈及界面結合方式研究
    18.7  電沉積(Ni-W-P)/(CeO2-SiO2)複合材料的性能研究
      18.7.1  顯微硬度測試分析和硬化原因探討
      18.7.2  磨損性能測試結果和分析
      18.7.3  抗高溫氧化性能研究
      18.7.4  化學腐蝕行為研究
    參考文獻
  第19章  電沉積一維納米材料及測試分析與表徵

      19.1.2  模板法生長技術
    19.2  多孔陽極氧化鋁模板的製備
      19.2.1  傳統多孔陽極氧化鋁的製備方法
      19.2.2  具有鋸齒狀孔道結構的氧化鋁薄膜的研究
    19.3  模板法製備Pt納米線陣列
      19.3.1  Pt納米線陣列的製備
      19.3.2  Pt納米線的形貌、結構
    19.4  模板法製備Co納米線/納米管陣列
      19.4.1  電沉積法製備Co納米線
      19.4.2  Co納米線的形貌和結構表徵
      19.4.3  電沉積法製備Co納米管
      19.4.4  Co納米管的形貌和結構表徵
    19.5  AAO模板製備ZnO納米管陣列及其複合結構
      19.5.1  電沉積Zn電解液的配製
      19.5.2  AAO模板輔助電沉積ZnO納米管陣列
      19.5.3  模板法製備Cu-ZnO同軸納米管異質結
      19.5.4  ITO玻璃上的ZnO納米管與納米棒有序陣列
    參考文獻
  第20章  電沉積Fe3O4塗層及其測試分析與表徵
    20.1  引言
    20.2  電沉積Fe3O4塗層的工藝
    20.3  Fe3O4沉積層的物相鑒定
    20.4  沉積層的微觀形貌和元素分析
      20.4.1  沉積層的微觀形貌
      20.4.2  沉積層的元素分佈
      20.4.3  塗層的結合力與厚度
    20.5  電化學測試
    20.6  水腐蝕測試
      20.6.1  失重結果與分析
      20.6.2  腐蝕后微觀形貌
      20.6.3  腐蝕后塗層表面元素分析
    20.7  結論
    20.8  關於Fe3O4電沉積機理的討論
    參考文獻
  第21章  電沉積材料研究的新進展和展望
    21.1  電沉積金屬及其合金的發展
      21.1.1  電沉積鋅及鋅合金的發展
      21.1.2  電沉積鋁及鋁合金的發展
      21.1.3  電沉積銅及銅合金的發展
      21.1.4  電沉積鎳及鎳合金的發展
      21.1.5  電沉積三元鐵基合金研究進展
    21.2  電沉積合金研究的兩項新進展
      21.2.1  電沉積納米晶合金
      21.2.2  電沉積非晶態合金
    21.3  電沉積金屬/合金基質複合材料的研究進展
      21.3.1  電沉積Ni和Ni基合金為基質的複合材料
      21.3.2  電沉積Zn基合金複合電沉積
      21.3.3  Ni或Ni-Co金剛石和複合沉積層
      21.3.4  Cr-金剛石複合沉積層
      21.3.5  多元複合電沉積功能材料

      21.3.6  電沉積Ni和Ni基合金為基質的複合材料發展趨勢
      21.3.7  電沉積Zn和Zn基合金為基質的複合材料研究進展
    21.4  複合電沉積機理研究及最新進展
      21.4.1  幾個重要的機理及模型
      21.4.2  近期機理研究及模型
      21.4.3  複合電沉積機理研究最新進展
      21.4.4  納米複合電沉積機理
      21.4.5  其他複合電沉積機理研究
    21.5  電沉積納米金屬及合金材料的研究進展
      21.5.1  單金屬納米材料
      21.5.2  脈衝電沉積法製備納米材料的研究進展
      21.5.3  電沉積納米晶材料的關鍵技術
    21.6  電沉積納米複合材料的研究進展
      21.6.1  納米複合電沉積的研究進展
      21.6.2  電沉積製備納米複合材料的研究進展
    21.7  納米複合電沉積在發展中存在的問題
      21.7.1  電沉積機理研究
      21.7.2  電沉積資源的綜合利用
      21.7.3  納米複合電沉積的應用前景及發展方向
    21.8  電沉積材料研究現狀的綜合分析
    參考文獻
  索引

    參考文獻
第二篇  電沉積材料現代測試分析與表徵方法簡介
  第4章  電沉積材料成分分析的X射線光譜法
    4.1  材料成分分析儀器大全
    4.2  特徵X射線發射譜及其精細結構
      4.2.1  特徵X射線譜發射機制
      4.2.2  特徵X射線的頻率、波長和能量
      4.2.3  X射線發射譜的精細結構
    4.3  電子探針分析儀的構造
    4.4  熒光X射線分析儀的構造
      4.4.1  實驗室熒光X射線分析儀的構造
      4.4.2  同步輻射熒光X射線分析儀
    4.5  X射線發射譜的定性定量分析
      4.5.1  X射線發射譜的定性分析
      4.5.2  X射線發射譜的定量分析
    4.6  X射線吸收譜和近限結構
      4.6.1  吸收限
      4.6.2  X射線吸收譜的近限結構
      4.6.3  用X射線吸收譜的化學定性定量分析
    4.7  擴展X射線吸收精細結構
      4.7.1  EXAFS的基本原理
      4.7.2  EXAFS譜的測量方法
      4.7.3  實驗測量EXAFS譜和預處理
      4.7.4  求徑向分佈函數RDF(r)
      4.7.5  結構參數的計算
    4.8  衍射異常精細結構
      4.8.1  衍射異常精細結構的原理
      4.8.2  數據分析方法
    參考文獻
  第5章  電沉積材料成分分析的電子能譜法
    5.1  光電子和俄歇電子的產生機制
      5.1.1  光電效應——光電子產生機制和能量
      5.1.2  俄歇電子產生機制
    5.2  電子能譜儀的基本構造
      5.2.1  電子能譜儀的激發源
      5.2.2  電子能量分析器
      5.2.3  檢出器與數據處理系統
      5.2.4  試樣室和真空系統
      5.2.5  多目的能譜儀
    5.3  X射線光電子能譜
      5.3.1  X射線光電子能譜基本原理
      5.3.2  光電子譜峰的物理位移與化學位移
      5.3.3  深度剖析
    5.4  紫外光電子能譜
    5.5  光電子能譜的定性定量分析
      5.5.1  光電子譜的能量和強度
      5.5.2  X射線光電子能譜定量化學分析
      5.5.3  價態研究
    5.6  俄歇電子能譜分析
      5.6.1  俄歇電子能譜儀

      5.6.2  俄歇電子的能量關係
      5.6.3  俄歇電子的逸出深度
      5.6.4  俄歇電子流的強度
      5.6.5  俄歇電子能譜圖
      5.6.6  俄歇能譜峰的寬度
      5.6.7  化學環境對俄歇電子能譜的影響
    5.7  俄歇能譜法定性與定量分析和價態分析
      5.7.1  俄歇電子能譜的定性分析
      5.7.2  俄歇電子能譜的定量分析
      5.7.3  用俄歇譜的化學價態研究
    5.8  俄歇電子能譜分析的應用
      5.8.1  俄歇電子能譜的應用領域
      5.8.2  在材料分析的應用
    5.9  材料成分分析類別及方法
    5.10  材料原子價態分析實例
      5.10.1  鎳-氫電池正極活性材料β-Ni(OH)2中Ni原子價態的光電子能譜分析
      5.10.2  Li(Ni0.6Co0.2Mn0.2)O2合成過程中陽離子的價態研究
      5.10.3  Fe3O4中不同晶體學位置Fe的價態的DAFS分析
    參考文獻
  第6章  粉末衍射儀和物相定性定量分析
    6.1  X射線多晶衍射分析的衍射儀法
      6.1.1  現代X射線粉末衍射儀
      6.1.2  X射線粉末衍射儀中的附件
    6.2  物相定性分析的原理和ICDD粉末衍射資料庫
      6.2.1  物相定性分析的原理和方法
      6.2.2  PDF資料庫
    6.3  定性分析的步驟
      6.3.1  實驗獲得待檢測物質的衍射數據
      6.3.2  數據觀測與分析
      6.3.3  檢索和匹配
      6.3.4  最後判斷
    6.4  材料的定性相分析電腦檢索方法
      6.4.1  PCPDFWIN定性相分析系統的應用
      6.4.2  Jade定性相分析系統的應用
    6.5  物相定量分析的原理
      6.5.1  單相試樣衍射強度的表達式
      6.5.2  衍射體積
      6.5.3  多相試樣的衍射強度
    6.6  無標樣的定量相分析方法及其比較
      6.6.1  直接比較法
      6.6.2  絕熱法
      6.6.3  Zevin無標樣法
      6.6.4  無標樣法特徵的比較
      6.6.5  無標樣法的實驗比較
    參考文獻
  第7章  表徵電沉積材料精細結構射線衍射測試分析方法
    7.1  點陣參數的精確測定
      7.1.1  點陣參數測定的誤差來源
      7.1.2  消除誤差的實驗方法
      7.1.3  初始點陣參數的獲得

      7.1.4  精確點陣參數的獲得
    7.2  宏觀殘餘應力的測定
      7.2.1  單軸應力的測定原理和方法
      7.2.2  平面宏觀應力的測定原理
      7.2.3  平面宏觀應力的測定方法
      7.2.4  平面宏觀應力的測量實例
      7.2.5  三維應力的測定
      7.2.6  薄膜應力的測定
      7.2.7  絲織構沉積層的X射線應力分析及修正
    7.3  多晶材料織構分析
      7.3.1  極圖測定
      7.3.2  反極圖的測定
      7.3.3  三維取向分佈函數
      7.3.4  材料織構分析
    參考文獻
  第8章  表徵電沉積材料微結構的方法
    8.1  譜線線形的卷積關係
    8.2  各種寬化效應
      8.2.1  晶粒度寬化——謝樂公式
      8.2.2  微應變引起的寬化
      8.2.3  層錯引起的寬化效應
      8.2.4  位錯引起的寬化效應
    8.3  分離微晶和微應力寬化效應的各種方法
      8.3.1  傅里葉級數法
      8.3.2  方差分解法
      8.3.3  近似函數法
      8.3.4  最小二乘方法
      8.3.5  前述幾種方法的比較
      8.3.6  作圖法與最小二乘方法的比較
    8.4  分離密堆六方ZnO中微晶-層錯寬化效應的Langford方法
    8.5  分離多重寬化效應的最小二乘方法
      8.5.1  分離微晶-層錯二重線寬化效應的最小二乘方法
      8.5.2  分離微應變-層錯二重寬化效應的最小二乘方法
      8.5.3  分離微晶-微應變-層錯三重寬化效應的最小二乘方法
      8.5.4  系列計算程序的結構
    8.6  求解微晶大小-微應變-位錯的最小二乘方法
    8.7  由半高寬求解晶粒大小-位錯密度-層錯概率的最小二乘方法
    8.8  用最小二乘方法微結構參數測定實例
      8.8.1  微晶-微應變-層錯的測定實例——Ni/MH電池活化前後對比研究
      8.8.2  用最小二乘方法測定位錯密度實例——球磨鐵粉末的晶粒大小和位錯密度
    8.9  Voigt單線法和Rietveld全譜擬合求解晶粒尺度、均方應變和位錯密度
      8.9.1  Voigt的單線分析法
      8.9.2  全譜擬合求解晶粒尺度和均方應變的原理
      8.9.3  通過全譜擬合求解晶粒尺度和均方應變的步驟
      8.9.4  通過全譜擬合求解晶粒尺寸分佈
      8.9.5  通過全譜擬合求解位錯密度
    參考文獻
  第9章  表徵電沉積材料的掃描電子顯微鏡方法
    9.1  掃描電子顯微鏡基本原理和結構
      9.1.1  電子光學系統(鏡筒)

      9.1.2  信號檢測放大及顯示系統
      9.1.3  電源系統和真空系統
    9.2  掃描電子顯微鏡的性能指標
      9.2.1  放大倍數
      9.2.2  解析度
      9.2.3  景深
    9.3  掃描電子顯微鏡的試樣製備
    9.4  掃描電子顯微鏡圖像襯度及其應用
      9.4.1  掃描電子顯微鏡圖像襯度
      9.4.2  二次電子像襯度及應用
      9.4.3  背散射電子襯度原理及其應用
      9.4.4  吸收電子襯度原理及其應用
    9.5  掃描電子顯微鏡圖像分析的一般應用
    9.6  掃描電子顯微鏡的中的波譜分析
    9.7  能譜儀的工作原理、結構和軟體系統
      9.7.1  能譜儀的工作原理
      9.7.2  能譜儀的結構
      9.7.3  能譜儀中的軟體系統
    9.8  掃描電子顯微鏡中電子背散射衍射分析原理
    9.9  掃描電子顯微鏡中的電子背散射衍射硬體系統
      9.9.1  硬體系統的整體布局
      9.9.2  硬體系統的整體布局實物照片
    9.10  菊池衍射花樣的標定
    9.11  電子背散射衍射和信息獲取
      9.11.1  晶粒取向分佈及取向差
      9.11.2  圖像質量圖及應力-應變分析
      9.11.3  晶粒形貌圖及晶粒尺寸分析
      9.11.4  晶界類型分析
      9.11.5  物相鑒別與鑒定及相取向關係
      9.11.6  織構分析
      9.11.7  點陣參數確定
    參考文獻
第三篇  典型電沉積材料及其現代測試分析與表徵示例
  第10章  電沉積銅薄膜和Cu-SiC複合材料及其測試分析與表徵
    10.1  電沉積銅薄膜材料製備和處理工藝及物相鑒定
      10.1.1  電沉積銅薄膜基體材料的製備
      10.1.2  電沉積銅膜工藝
      10.1.3  電沉積銅薄膜的晶粒大小和自回火效應
    10.2  電沉積銅薄膜的織構
      10.2.1  不同電流密度下沉積銅薄膜的絲織構特徵
      10.2.2  薄膜厚度對絲織構的影響
      10.2.3  添加劑對電沉積銅薄膜織構的影響
      10.2.4  超聲對沉積膜織構的抑製作用
      10.2.5  織構與薄膜的各向異性
    10.3  電沉積銅薄膜中的內應力
      10.3.1  電沉積工藝對銅薄膜內應力的影響
      10.3.2  內應力對薄膜織構的影響
      10.3.3  電沉積銅薄膜內應力調整
    10.4  電沉積銅薄膜力學行為研究
    10.5  電沉積銅薄膜的生長、織構形成和內應力產生機理的討論

      10.5.1  電沉積的基本歷程
      10.5.2  電沉積銅薄膜的結晶生長機理
      10.5.3  電沉積銅薄膜的織構生長機理
      10.5.4  電沉積薄膜中內應力產生機理
      10.5.5  電沉積薄膜的組織結構
    10.6  電沉積銅薄膜及測試分析小結
    10.7  電沉積Cu-SiC複合電極材料
      10.7.1  電沉積Cu-SiC複合電極材料的製備方法
      10.7.2  複合電沉積工藝對SiC含量的影響
      10.7.3  SiC顆粒在電沉積層中的分佈和電沉積層表面形貌
      10.7.4  抗電蝕性實驗
      10.7.5  電沉積Cu-SiC及其測試分析小結
    參考文獻
  第11章  鎂合金錶面電沉積納米Cu/(Ni-Co-Cu)合金及其測試分析與表徵
    11.1  電沉積前鎂合金錶面的預處理工藝和行為
      11.1.1  鎂合金錶面的預處理工藝
      11.1.2  鎂合金錶面的預處理產物的生成與溶解的開路電勢分析
      11.1.3  鎂合金錶面預處理產物的X射線分析
      11.1.4  鎂合金錶面形貌演變
    11.2  電沉積Cu/(Ni-Co-Cu)沉積層
      11.2.1  電沉積工藝
      11.2.2  Cu/(Ni-Co-Cu)沉積層的形貌和成分
      11.2.3  鎂合金錶面電沉積層前後的耐腐蝕性能
    11.3  Cu/(Ni-Co-Cu)納米合金沉積層的製備
      11.3.1  不同成分Cu/(Ni-Co-Cu)納米合金沉積層的製備
      11.3.2  電流密度對沉積層成分的影響
    11.4  Cu/(Ni-Co-Cu)納米合金沉積層的顯微硬度
      11.4.1  不同成分沉積液所製備沉積層的顯微硬度
      11.4.2  不同電流密度所製備沉積層的納米硬度
    11.5  Cu/(Ni-Co-Cu)納米合金沉積層的腐蝕性能
      11.5.1  不同成分沉積液所製備沉積層的腐蝕性能
      11.5.2  不同電流密度所製備沉積層的腐蝕性能
    11.6  Cu/(Ni-Co-Cu)納米合金沉積層的組織結構和形貌
      11.6.1  Ni-Co-Cu納米合金沉積層的織構
      11.6.2  晶格常數隨沉積層成分的變化
      11.6.3  Ni-Co-Cu納米合金沉積層的晶粒大小和微應變
    11.7  Ni-Co-Cu納米合金沉積層的形貌與微觀組織結構觀察
      11.7.1  沉積液成分對沉積層形貌的影響
      11.7.2  沉積層微觀組織結構的TEM觀察
    11.8  綜合分析和討論
      11.8.1  關於Ni、Co、Cu共沉積的討論
      11.8.2  腐蝕產物形成過程
      11.8.3  腐蝕產物成分XPS分析
      11.8.4  腐蝕產物結構XRD分析
      11.8.5  腐蝕產物膜形成機制
    參考文獻
  第12章  電沉積Ni-Al顆粒與Ni-Zr顆粒複合材料的測試分析與表徵
    12.1  Ni-Al顆粒與Ni-Zr顆粒複合沉積層製備
      12.1.1  純Ni沉積層的製備
  
      12.1.3  Ni-Zr沉積層的製備
      12.1.4  NiCo-Zr沉積層的製備
    12.2  Ni-Al與Ni-Zr複合沉積層織構表徵
      12.2.1  Ni-Al沉積層和Ni-Zr沉積層的X射線衍射花樣
      12.2.2  沉積層織構的X射線分析方法
      12.2.3  複合沉積層的織構
    12.3  複合沉積層織構的沉積工藝調整方法
    12.4  Ni-Al與Ni-Zr複合沉積層內應力表徵和調整
      12.4.1  複合沉積層內應力的表徵
      12.4.2  Ni-Al及Ni-Zr沉積層內應力的調整方法
    12.5  Ni-Al與Ni-Zr複合沉積層微結構的表徵和研究
      12.5.1  Ni-Al沉積層和NiCo-Al沉積層的微結構
      12.5.2  Ni-Zr沉積層的微結構
      12.5.3  NiCo-Zr沉積層的微結構
      12.5.4  等溫退火過程中沉積層的組織結構變化
    12.6  Ni-Al與Ni-Zr複合沉積層性能的表徵
      12.6.1  複合沉積層的硬度
      12.6.2  Ni-Al和Ni-Zr複合沉積層的耐腐蝕性能
      12.6.3  NiCo-Al和NiCo-Zr複合沉積層的耐腐蝕性能
    12.7  電沉積工藝參數-性能-組織結構之間的關係
    12.8  有關機理的討論
      12.8.1  Al/Zr抑制複合沉積層織構生長的機理
      12.8.2  沉積層中內應力的產生
      12.8.3  複合沉積層硬化機理
      12.8.4  抗腐蝕性能提高的機理
    12.9  織構結構的調整
      12.9.1  織構的調整方法和效果
      12.9.2  沉積層內應力的調整方法和效果
      12.9.3  沉積層微結構參數的調整方法和效果
    12.10  主要結論
    參考文獻
  第13章  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合電沉積材料的測試分析與表徵
    13.1  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合電沉積層的製備
      13.1.1  電沉積液及預處理
      13.1.2  陽極和陰極基體材料及預處理
      13.1.3  電沉積設備
      13.1.4  電沉積工藝參數
    13.2  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積層的製備
      13.2.1  電流密度對Ni-(xAl-yTi)複合沉積層Al、Ti含量及形貌的影響
      13.2.2  顆粒濃度對Ni-(xAl-yTi)複合沉積層Al、Ti含量及形貌的影響
      13.2.3  顆粒比例對Ni-(xAl-yTi)複合沉積層Al、Ti含量及形貌的影響
    13.3  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積的性能表徵
      13.3.1  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積層硬度
      13.3.2  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積層耐腐蝕性能
    13.4  Ni-(xAl-yTi)複合沉積層相結構和織構表徵
      13.4.1  電流密度對Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積層相結構和織構的影響
      13.4.2  顆粒濃度對Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積層組織結構的影響
      13.4.3  顆粒比例對Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積層相結構及織構的影響
  
      13.5.1  電沉積工藝對Ni-(xAl-yTi)複合沉積層內應力的影響
      13.5.2  沉積過程中Ni-(xAl-yTi)複合沉積層內應力演變
      13.5.3  Al/Ti顆粒與沉積層間的應力的關係
      13.5.4  Ni-(xAl-yTi)複合沉積層內應力調整方法
    13.6  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積的工藝-性能-組織結構之間的關係
    13.7  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積機理
      13.7.1  Ni-(xAl-yTi)顆粒複合沉積過程
      13.7.2  Ni-(xAl-yTi)複合沉積層組織結構形成機制
      13.7.3  Ni-(xAl-yTi)複合沉積層中Al、Ti顆粒
      13.7.4  Al、Ti顆粒周圍鎳基晶粒的生長機制
      13.7.5  Ni-(xAl-yTi)複合沉積層硬度增強機理
      13.7.6  Ni-(xAl-yTi)複合沉積層耐腐蝕機制
    參考文獻
  第14章  電沉積Ni-ZrC複合沉積層的測試分析與表徵
    14.1  Ni-ZrC複合沉積層的製備工藝研究
      14.1.1  Ni-P非晶層的製備
      14.1.2  Ni-ZrC複合沉積液
    14.2  複合沉積Ni-nZrC層的表面形貌觀察
      14.2.1  電流密度對沉積層形貌的影響
      14.2.2  顆粒濃度及尺寸對Ni-ZrC沉積層形貌的影響
    14.3  複合沉積層中ZrC顆粒含量的測量和控制
    14.4  複合沉積Ni-nZrC層的X射線衍射花樣和纖維織構
      14.4.1  複合沉積Ni-nZrC層的X射線衍射花樣
      14.4.2  電沉積參數對Ni-ZrC複合沉積層織構的影響
      14.4.3  鎳基沉積層生長過程中的織構變化
    14.5  Ni-ZrC沉積層的內應力測試分析
      14.5.1  電沉積參數對Ni-ZrC沉積層內應力的影響
      14.5.2  鎳基沉積層生長過程中的內應力
      14.5.3  沉積層內應力的調整方法
    14.6  Ni-ZrC沉積層微結構的XRD線形分析
      14.6.1  電流密度對沉積層微結構的影響
      14.6.2  顆粒濃度對沉積層微結構的影響
      14.6.3  微結構的退火行為
    14.7  Ni-ZrC沉積層的力學性能研究
      14.7.1  沉積層的硬度研究
      14.7.2  沉積層力學性能的XRD分析
    14.8  Ni-ZrC複合沉積層的工藝-性能-組織結構之間的關係
    14.9  有關機理的討論
      14.9.1  Ni-ZrC複合沉積層的電沉積過程
      14.9.2  織構形成機理及晶粒細化
      14.9.3  Ni-ZrC沉積層在高溫下的晶粒長大
      14.9.4  Ni-ZrC複合沉積層的強化機制和抗腐蝕機制
    參考文獻
  第15章  電沉積Ni-(Ti-CeO2)顆粒複合材料及其測試分析與表徵
    15.1  Ni-(Ti-CeO2)顆粒複合沉積層的製備和形貌
      15.1.1  製備溶液和工藝條件
      15.1.2  電流密度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層中Ti、CeO2含量及形貌的影響
      15.1.3  顆粒濃度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層中Ti、CeO2含量及形
      15.2.1  電流密度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層表層硬度的影響
      15.2.2  顆粒濃度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層表層硬度的影響
      15.2.3  顆粒比例對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層表面硬度的影響
      15.2.4  Ti、CeO2顆粒對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層截面硬度分佈的協同作用
    15.3  Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層的耐腐蝕性能
      15.3.1  電流密度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層耐腐蝕性能的影響
      15.3.2  顆粒濃度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層耐腐蝕性能的影響
      15.3.3  顆粒比例對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層耐腐蝕性能的影響
    15.4  Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層的織構和微結構
      15.4.1  電流密度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層織構和微結構的影響
      15.4.2  顆粒濃度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層織構和微結構的影響
      15.4.3  顆粒比例對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層織構和微結構的影響
      15.4.4  Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層生長過程中的組織結構演變
    15.5  Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層內應力
      15.5.1  電流密度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層內應力的影響
      15.5.2  顆粒濃度對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層內應力的影響
      15.5.3  顆粒比例對Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層內應力的影響
      15.5.4  Ti-CeO2顆粒與鎳沉積基體間的應力
    15.6  電沉積工藝參數-結構-性能之間的關係
    15.7  關於多元顆粒共沉積及有關機理的討論
      15.7.1  Ti和CeO2顆粒對Ni-(Ti-CeO2)組織結構的協同影響
      15.7.2  鎳基複合沉積層內應力產生的機理
      15.7.3  Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層硬度的增加機制
      15.7.4  Ni-(Ti-CeO2)複合沉積層提高耐腐蝕性能作用機理研究
    參考文獻
  第16章  電沉積(Ni-Co)-金剛石粉複合刀片的測試分析與表徵
    16.1  電沉積裝置和工藝方法
      16.1.1  電沉積裝置
      16.1.2  電沉積液和沉積工藝
    16.2  複合電沉積層的成分與拉伸性能的測定
      16.2.1  複合電沉積層的成分及刀片形貌觀察
      16.2.2  拉伸強度試驗
      16.2.3  沉積層結構的X射線衍射分析
    16.3  電沉積(Ni-Co)-金剛石粉刀片化學成分、拉伸強度和結構的研究
      16.3.1  電沉積參數對電沉積刀片的化學成分及拉伸強度的影響
      16.3.2  沉積層的物相及點陣參數與鈷含量的關係
      16.3.3  晶粒度和微觀應力與電沉積參數的關係
      16.3.4  沉積層的織構及其分散度
    16.4  電複合沉積刀片的顯微組織和划片性能
      16.4.1  電複合沉積刀片的顯微組織
      16.4.2  複合沉積刀片的划片性能和合格率
    16.5  複合電沉積過程及沉積層組織結構與性能間的關係
      16.5.1  複合電沉積過程和複合電沉積機理
      16.5.2  沉積層組織結構與性能間的關係
    16.6