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二次電子發射理論及應用(精)/空間科學與技術研究叢書

  • 作者：封國寶//崔萬照//王芳//苗光輝|責編:陳莉華
  • 出版社：北京理工大學
  • ISBN：9787576314144
  • 出版日期：2022/07/01
  • 裝幀：精裝
  • 頁數：238
人民幣：RMB 76 元      售價：元
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內容大鋼
    本書內容主要聚焦于二次電子發射的理論模型和相關應用方面，在部分章節列舉了幾個典型案例展開討論。本書的內容涵蓋了二次電子的發射理論模型、測量、數據結果、表面工藝、介質帶電分析以及典型應用場景介紹。內容涉及粒子物理理論、模擬演算法、磁流體力學、表面工藝、表面表徵等多個領域。
    本書共分為6章，其中，第1章為緒論，介紹了二次電子發射和與此相關的介質帶電概念和現狀。第2章介紹了4種主要二次電子發射模型，以及分別針對導電金屬和導電不良體的介質研製的測試平台，此外，還列出了部分典型金屬和介質材料的二次電子發射數據。第3章介紹了常用二次電子發射表面調控技術，列舉了幾種用於抑制二次電子發射的表面陷阱結構和用於表面調控的材料工藝。第4章介紹了電子轟擊表面的帶電效應和二次電子發射在帶電狀態下的動態特性。第5章簡要敘述了電子轟擊對材料的影響。第6章講述了二次電子發射在微波部件微放電和電子顯微成像領域的應用，並展開了進一步分析。
作者介紹
封國寶//崔萬照//王芳//苗光輝|責編:陳莉華
目錄
第1章  緒論
  1.1  基本概念
  1.2  應用背景
  1.3  研究現狀
    1.3.1  二次電子發射特性約研究
    1.3.2  介質材料的帶電特性研究
    1.3.3  二次電子動態發射
第2章  二次電子發射理論模型及測量
  2.1  二次電子發射數值理論模型
    2.1.1  Vaughan模型
    2.1.2  Furman模型
    2.1.3  Monte Carlo數值模型
    2.1.4  半物理模型
  2.2  二次電子發射的測量
    2.2.1  金屬材料的二次電子發射測量
    2.2.2  介質材料的二次電子發射測量
  2.3  典型材料二次電子產額測量結果
    2.3.1  常見金屬材料的二次電子發射產額及能譜測量數據
    2.3.2  常見介質材料的二次電子發射產額測量數據
第3章  二次電子發射表面調控技術
  3.1  表面微結構抑制二次電子發射
    3.1.1  表面構型抑制二次電子的基本原理
    3.1.2  樣品表面規則槽結構
    3.1.3  收攏式表面陷阱結構
    3.1.4  二維嵌套式陷阱結構抑制二次電子發射
    3.1.5  抑制二次電子的表面構型技術工藝
  3.2  表面鍍膜調控二次電子發射
    3.2.1  表面鍍膜技術調控SEY的原理
    3.2.2  表面鍍膜技術抑制SEY
    3.2.3  表面鍍膜技術增強SEY
    3.2.4  其他技術
    3.2.5  表面鍍膜技術與表面構型技術的結合
第4章  介質材料的帶電及二次電子動態發射
  4.1  電子照射介質材料帶電特性
    4.1.1  電荷輸運理論及模型
    4.1.2  充電動態模擬流程
    4.1.3  電子輻照介質帶電分佈特性
  4.2  介質帶電下的二次電子發射動態特性
    4.2.1  帶電平衡數值模型
    4.2.2  樣品參數對平衡模式的影響
第5章  電子轟擊對介質材料的影響
  5.1  電子輻照帶電效應下的微波介電特性
    5.1.1  多能量電子束輻照
    5.1.2  帶電效應影響介電常數
    5.1.3  對DRA的影響
  5.2  電子轟擊對材料表面的影響
    5.2.1  放電所需的電子輻照量測試
    5.2.2  表面放電電位數值模擬
    5.2.3  電子轟擊下的表面釋氣
    5.2.4  表面化學鍵與表面形貌

第6章  二次電子發射的應用
  6.1  微放電效應
    6.1.1  微放電模擬方法
    6.1.2  微放電動態過程分析
    6.1.3  二次電子對微放電的影響
  6.2  顯微成像中的二次電子
    6.2.1  二次電子成像的應用
    6.2.2  帶埋層結構的介質表面的二次電子倍增
參考文獻
索引

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