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產業專利分析報告(第84冊高端光刻機)

  • 作者：編者:國家知識產權局學術委員會|責編:盧海鷹//王瑞璞
  • 出版社：知識產權
  • ISBN：9787513081955
  • 出版日期：2022/07/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：149
人民幣：RMB 70 元      售價：元
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內容大鋼
    本書是高端光刻機領域的專利分析報告，從該領域的發展概況、專利壁壘指數模型研究、競爭情報、主要技術分支專利等方面入手，充分結合相關數據展開分析，得出紮實的研究結論和相關建議。本書是企業了解高端光刻機領域技術發展現狀並預測未來走向，以及做好專利預警所需的必備工具書。
作者介紹
編者:國家知識產權局學術委員會|責編:盧海鷹//王瑞璞
目錄
第1章  概況
  1.1  研究背景
    1.1.1  技術發展概況
    1.1.2  產業現狀
    1.1.3  產業發展趨勢
  1.2  研究對象和方法
    1.2.1  研究對象
    1.2.2  研究方法
    1.2.3  相關事項和約定
第2章  專利壁壘指數模型研究
  2.1  研究意義
  2.2  研究對象
  2.3  研究優勢
  2.4  專利壁壘指數模型
    2.4.1  建立流程
    2.4.2  相關因素
第3章  高端光刻機全球競爭情報分析
  3.1  高端光刻機專利總體競爭態勢
    3.1.1  總體申請趨勢
    3.1.2  原創目標國家地區專利申請分佈
    3.1.3  重要申請人分析
  3.2  全球科技文獻技術情報分析
  3.3  各領域申請趨勢及布局趨勢分析
    3.3.1  曝光系統
    3.3.2  工件台及測量系統
    3.3.3  環境與真空
  3.4  ASML專利分析
    3.4.1  ASML成長經歷
    3.4.2  ASML專利申請與布局
    3.4.3  ASML科技文獻信息分析
  3.5  中國申請人專利分析
    3.5.1  專利申請趨勢分析
    3.5.2  申請人構成分析
    3.5.3  申請人的各技術分支申請分佈
    3.5.4  重要申請人分析
  3.6  本章小結
第4章  EUV光源專利分析
  4.1  EUV光源技術介紹
  4.2  專利競爭態勢分析
    4.2.1  申請態勢
    4.2.2  專利區域分佈
    4.2.3  重要申請人分析
  4.3  技術路線分析
    4.3.1  提高轉換效率
    4.3.2  減少污染
    4.3.3  提高穩定性
  4.4  重要專利技術介紹
  4.5  全球科技文獻情報分析
    4.5.1  EUV光源提高轉換效率
    4.5.2  防止EUV光源污染

    4.5.3  提高穩定性
    4.5.4  全球科技文獻情報分析小結
  4.6  技術發展趨勢預測
  4.7  專利壁壘研究
  4.8  技術未來發展預測與中國技術發展路線
    4.8.1  借鑒G公司准分子激光器技術可行性分析
    4.8.2  人才戰略資源導航
    4.8.3  專利可利用性淺析
  4.9  本章小結
第5章  投影物鏡專利分析
  5.1  投影物鏡技術介紹
  5.2  專利競爭態勢分析
    5.2.1  申請態勢
    5.2.2  專利區域分佈
    5.2.3  主要申請人分析
  5.3  技術路線分析
    5.3.1  膜層設計
    5.3.2  多鏡投影物鏡系統整體設計
  5.4  重要專利技術介紹
  5.5  全球科技文獻情報分析
  5.6  技術發展趨勢預測
  5.7  投影物鏡專利壁壘研究
  5.8  反射鏡鍍膜專利技術的充分利用
  5.9  本章小結
第6章  主要結論和建議
  6.1  主要結論
  6.2  主要建議
附錄
  附錄1  申請人名稱約定表
  附錄2  EUV光刻機重要專利列表
  附錄3  可被借鑒的部分專利列表
圖索引
表索引

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