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光學真空鍍膜技術

作者：編者:石澎//馬平|責編:付承桂//趙玲麗
出版社：機械工業
ISBN：9787111693567

出版日期：2022/02/01
裝幀：平裝
頁數：138

人民幣：RMB 46 元售價：元

內容大鋼

近些年，隨著手機、汽車、安防監控等光學鏡頭終端市場的規模化、持續性擴張，對光學薄膜的需求也越來越多，光學真空鍍膜技能型人才供不應求的局面日益凸顯。本書以弱化理論、側重實踐與技能為原則，按照工序將光學真空鍍膜技術分為光學鍍膜基礎與膜系設計、光學薄膜製備技術、光學薄膜檢測技術三部分，對應光學薄膜製備的三個核心流程，基於工作過程和典型工作任務設置單元和內容，使書中內容與職業崗位要求相匹配。
本書可作為高職、中職院校光學相關專業的課程教材，也可供相關領域的工程技術人員學習參考。

作者介紹

編者:石澎//馬平|責編:付承桂//趙玲麗

前言
第1章  光學鍍膜基礎
  1.1  光學薄膜理論基礎
    1.1.1  平面電磁波在單一界面上的反射和折射
    1.1.2  菲涅爾公式
    1.1.3  光學薄膜特性的理論計算
  1.2  光學薄膜設計
    1.2.1  增透膜的設計
    1.2.2  高反膜的設計
    1.2.3  分光膜的設計
    1.2.4  干涉濾光片
  1.3  光學薄膜材料
    1.3.1  金屬薄膜材料
    1.3.2  介質和半導體薄膜材料
    1.3.3  金屬膜與介質膜的比較
第2章  光學薄膜製備技術
  2.1  真空及真空設備
    2.1.1  真空技術知識及主要術語定義
    2.1.2  獲得真空所需的設備
    2.1.3  真空的測量
  2.2  熱蒸發鍍膜工藝
    2.2.1  熱蒸發鍍膜機理介紹
    2.2.2  熱蒸發鍍膜工藝分類
    2.2.3  離子束輔助沉積工藝介紹
    2.2.4  影響熱蒸發鍍膜質量的工藝參數
  2.3  濺射鍍膜工藝
    2.3.1  濺射鍍膜機理介紹
    2.3.2  濺射鍍膜工藝分類
    2.3.3  影響濺射鍍膜質量的工藝參數
第3章  光學薄膜檢測技術
  3.1  光學薄膜反射率和透過率測量
    3.1.1  光譜分析測試系統原理
    3.1.2  薄膜透過率測量
    3.1.3  薄膜反射率測量
    3.1.4  影響測量準確度的因素
  3.2  光學薄膜厚度的測量
    3.2.1  干涉法測量薄膜厚度
    3.2.2  輪廓法測量薄膜厚度
    3.2.3  其他測量方法
  3.3  光學薄膜激光損傷閾值測量
    3.3.1  光學薄膜損傷測量標準及判定
    3.3.2  幾類激光損傷閾值測量方法介紹
    3.3.3  激光損傷測試裝置
    3.3.4  1-on-1損傷測試標準過程
  3.4  光學薄膜其他參數測量
    3.4.1  薄膜的吸收和散射測量
    3.4.2  薄膜材料折射率測量
    3.4.3  薄膜散射測量
    3.4.4  薄膜折射率測量
參考文獻

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