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陶瓷表面處理技術與應用

  • 作者：編者:王慧//曾令可|責編:朱彤
  • 出版社：化學工業
  • ISBN：9787122328052
  • 出版日期：2020/01/01
  • 裝幀：平裝
  • 頁數：218
人民幣：RMB 88 元      售價：元
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內容大鋼
    材料表面處理是材料表面改性和新材料製備的重要手段，材料表面改性是目前材料科學最活躍的領域之一。作為一本實用的技術書籍，本書較全面地敘述了各種表面改性技術（包括傳統的表面改性技術，如表面塗層法、滲氮、陽極氧化、化學氣相沉積、物理氣相沉積、離子束濺射沉積等；新型表面改性技術，如金屬蒸氣真空弧離子源離子注入、離子束增強/輔助沉積、等離子源離子注入、激光表面合金化、激光化學氣相沉積、等離子體輔助化學氣相沉積、雙層輝光等離子體表面合金化等）的發展應用，系統講述了傳統陶瓷的表面改性技術、裝飾技術，高性能陶瓷（結構陶瓷、功能陶瓷、生物陶瓷）的表面改性技術，並延伸到了陶瓷粉體、陶瓷纖維及其他新型纖維的表面改性技術，還重點介紹了陶瓷材料表面改性的測試與表徵方法。
    本書可供從事材料表面改性研究，特別是陶瓷材料表面改性研究與開拓應用、無機非金屬材料、建築材料等領域的科研人員及技術工作者參考，也可作為高等院校相關專業的教學參考書或教材。
作者介紹
編者:王慧//曾令可|責編:朱彤
目錄
第1章  表面改性技術概論與傳統表面改性技術
  1.1  表面塗層法
    1.1.1  熱噴塗法
    1.1.2  冷噴塗法
    1.1.3  溶膠-凝膠塗層
    1.1.4  多弧離子鍍技術
  1.2  離子滲氮技術
    1.2.1  離子滲氮的理論
    1.2.2  離子滲氮技術的主要特點
    1.2.3  離子滲氮的設備和工藝
    1.2.4  技術應用
  1.3  陽極氧化
    1.3.1  鋁和鋁合金的陽極氧化
    1.3.2  鋁和鋁合金的特種陽極氧化
    1.3.3  鋁和鋁合金陽極氧化后的封閉處理
    1.3.4  陽極氧化的應用
  1.4  氣相沉積法
    1.4.1  化學氣相沉積
    1.4.2  物理氣相沉積
  1.5  離子束濺射沉積技術
    1.5.1  離子束濺射與沉積
    1.5.2  離子源
    1.5.3  技術方法
    1.5.4  應用
參考文獻
第2章  新型表面改性技術
  2.1  離子注入技術
    2.1.1  離子注入技術原理
    2.1.2  金屬蒸氣真空離子源（MEVVA）技術
    2.1.3  離子注入對陶瓷材料表面力學性能的影響
  2.2  等離子體技術
    2.2.1  脈衝等離子體技術
    2.2.2  等離子體輔助化學氣相沉積
    2.2.3  雙層輝光等離子體表面合金化
  2.3  激光技術
    2.3.1  激光表面處理技術的原理及特點
    2.3.2  激光表面合金化
    2.3.3  激光化學氣相沉積
    2.3.4  准分子激光照射技術
  2.4  離子束輔助沉積
    2.4.1  基本原理
    2.4.2  IBAD設備簡介
    2.4.3  IBAD工藝類型與特點
    2.4.4  IBAD過程的影響因素
    2.4.5  IBAD技術的應用
參考文獻
第3章  陶瓷表面裝飾技術
  3.1  陶瓷磚的表面滲花
    3.1.1  滲花原理
    3.1.2  常用的滲花著色劑

    3.1.3  滲花釉外加劑
    3.1.4  滲花釉的製備
    3.1.5  滲花磚坯料
    3.1.6  滲花磚的製備
  3.2  輥筒印花技術
    3.2.1  工作原理
    3.2.2  印花過程
    3.2.3  主要優缺點
    3.2.4  主要應用
  3.3  貼花紙裝飾技術
    3.3.1  貼花裝飾
    3.3.2  陶瓷貼花裝飾工藝
  3.4  表面布料技術
    3.4.1  陶瓷布料機
    3.4.2  瓷質磚多管布料技術
    3.4.3  正打微粉二次布料等技術
  3.5  噴墨列印技術
    3.5.1  噴墨印表機的原理
    3.5.2  噴墨列印呈色原理
    3.5.3  陶瓷噴墨印花機的構成
    3.5.4  陶瓷噴墨印花的工作流程
    3.5.5  陶瓷噴墨印花技術的優勢
    3.5.6  噴墨列印用陶瓷墨水
  3.6  陶瓷表面的玻璃化處理技術
    3.6.1  低溫快燒玻化磚
    3.6.2  陶瓷磚複合微晶化表面改性
  3.7  陶瓷磚的表面微晶化
    3.7.1  微晶玻璃的概念
    3.7.2  微晶玻璃的特性
    3.7.3  微晶玻璃的應用
    3.7.4  微晶玻璃的製備與玻璃析晶
    3.7.5  微晶玻璃主要系統
    3.7.6  基礎玻璃熱處理過程
    3.7.7  晶核劑的作用機理
    3.7.8  微晶玻璃與陶瓷基板的結合性
參考文獻
第4章  傳統陶瓷的表面改性
  4.1  陶瓷表面的抗菌自潔性能
    4.1.1  抗菌劑種類及其抗菌機理
    4.1.2  抗菌釉的製備方法
    4.1.3  影響表面抗菌性能的因素
  4.2  拋光磚的表面防污性能
    4.2.1  拋光磚的表面防污原理
    4.2.2  蠟類、有機塗層和憎水性表面活性劑防污技術
    4.2.3  有機硅表面防污技術
    4.2.4  含氟低表面能型表面防污技術
  4.3  陶瓷表面的金屬化
    4.3.1  沉積法
    4.3.2  燒結法
    4.3.3  噴塗金屬化法

    4.3.4  被銀法（Pd法）
    4.3.5  化學鍍實現陶瓷微粒表面金屬化
    4.3.6  雙層輝光離子滲金屬技術
    4.3.7  陶瓷牆、地磚表面的激光玻化改性
    4.3.8  絲網印刷技術
  4.4  陶瓷表面的蓄光發光性能
    4.4.1  硫化物系列蓄光型發光材料
    4.4.2  鋁酸鹽體系蓄光型發光材料發光機理
    4.4.3  硅酸鹽體系蓄光型發光材料及發光機理
    4.4.4  發光陶瓷釉的製備
  4.5  陶瓷表面的抗靜電性能
    4.5.1  抗靜電原理
    4.5.2  抗靜電陶瓷
    4.5.3  研究現狀及展望
  4.6  陶瓷的吸波性能
    4.6.1  吸波材料的基本性質
    4.6.2  納米吸波材料的吸波機理
    4.6.3  納米吸波材料的研究進展
參考文獻
第5章  高性能陶瓷的表面改性技術
  5.1  氮化鋁陶瓷表面改性
    5.1.1  AlN表面化學法鍍Ni-P合金
    5.1.2  融鹽熱歧化反應可以成功進行氮化鋁陶瓷表面鈦金屬化
    5.1.3  界面反應原理
    5.1.4  動力學分析
    5.1.5  相應的分析手段
  5.2  碳化硅陶瓷表面改性
    5.2.1  塗層技術
    5.2.2  碳化硅表面塗層的製備方法
    5.2.3  等靜壓后處理技術
    5.2.4  碳化硅陶瓷基複合材料的表面改性
  5.3  冷噴塗法製備PZT陶瓷
    5.3.1  冷噴塗技術的產生和發展現狀
    5.3.2  冷噴塗的技術要求
    5.3.3  冷噴塗工藝的重要特徵
    5.3.4  冷噴塗技術的實現
    5.3.5  冷噴塗技術製備PZT陶瓷
  5.4  氧化鋁陶瓷表面改性
    5.4.1  塗層技術
    5.4.2  離子注入技術
  5.5  氮化硅陶瓷表面改性
    5.5.1  塗層技術
    5.5.2  離子注入技術
    5.5.3  陽離子萃取技術
    5.5.4  氮化硅表面改性對本身力學性能的影響
  5.6  氧化鋯陶瓷表面改性
    5.6.1  離子注入ZrO2陶瓷
    5.6.2  ZrO2陶瓷表面化學鍍
參考文獻
第6章  生物陶瓷的表面改性

  6.1  生物陶瓷的基本性質
    6.1.1  生物陶瓷基本要求
    6.1.2  生物陶瓷體內的反應過程與反應機理
  6.2  生物陶瓷的分類
    6.2.1  惰性生物陶瓷
    6.2.2  生物活性陶瓷
  6.3  生物陶瓷改性的方法
    6.3.1  生物陶瓷骨修復材料的缺陷
    6.3.2  提高生物陶瓷材料的表面與整體活性
    6.3.3  材料力學性能的提高
  6.4  展望
參考文獻
第7章  陶瓷粉體表面改性
  7.1  概述
    7.1.1  根據粉體表面改性方法的分類
    7.1.2  根據粉體表面改性工藝的分類
    7.1.3  根據粉體表面改性劑的分類
  7.2  Si3N4陶瓷粉體表面改性
    7.2.1  聚電解質作為表面分散劑
    7.2.2  偶聯劑對Si3N4粒子的表面改性
    7.2.3  Si3N4顆粒表面烷基化
    7.2.4  Si3N4表面塗覆Al(OH)
  7.3  Al2O3陶瓷粉體表面改性
    7.3.1  有機羧酸改性Al2O3粉體
    7.3.2  偶聯劑塗覆Al2O3粉體
    7.3.3  納米BN包覆Al2O3粉體
    7.3.4  Y2O3包覆Al2O3粉體
  7.4  TiO2粉體表面改性
    7.4.1  TiO2無機包覆處理改性
    7.4.2  TiO2有機包覆處理改性
    7.4.3  機械力化學改性TiO2粉體
  7.5  碳酸鈣粉體表面改性
    7.5.1  無機改性劑
    7.5.2  有機改性劑
    7.5.3  超細粉碎與表面改性劑複合改性
    7.5.4  低溫等離子表面改性碳酸鈣
  7.6  碳化硅陶瓷粉體表面改性
    7.6.1  Al(OH)3塗覆SiC粉體
    7.6.2  聚合物表面接枝
  7.7  陶瓷微球表面的改性
    7.7.1  陶瓷微球改性工藝
    7.7.2  改性后陶瓷微球的性能
  7.8  陶粒及膨脹珍珠岩的防水機理
    7.8.1  陶粒膨脹珍珠岩的親水機理和憎水機理
    7.8.2  陶粒與膨脹珍珠岩的憎水處理工藝
參考文獻
第8章  陶瓷纖維及其他新型纖維表面改性技術
  8.1  概述
  8.2  碳纖維表面改性
    8.2.1  氧化處理

    8.2.2  表面塗覆處理
    8.2.3  等離子體處理
    8.2.4  碳纖維的其他表面改性技術
  8.3  碳化硅纖維表面改性
    8.3.1  電化學表面處理
    8.3.2  表面塗覆法
    8.3.3  電子束輻射技術
  8.4  氮化硅纖維表面改性
  8.5  玻璃纖維表面改性
    8.5.1  玻璃纖維的表面處理方法
    8.5.2  光催化型玻璃纖維
    8.5.3  抗靜電玻璃纖維
  8.6  硅酸鋁陶瓷纖維的改性
    8.6.1  最初用於硅酸鋁陶瓷纖維的塗層
    8.6.2  紅外輻射塗層
    8.6.3  環保型的塗層材料
參考文獻
第9章  陶瓷表面改性的測試與表徵
  9.1  概述
  9.2  紅外光譜
    9.2.1  紅外光譜儀
    9.2.2  樣品製備
    9.2.3  應用
  9.3  掃描電子顯微鏡
    9.3.1  二次電子像
    9.3.2  背反射電子像
    9.3.3  樣品製備
    9.3.4  應用
  9.4  原子力顯微鏡
    9.4.1  原子力顯微鏡的工作原理
    9.4.2  樣品製備
  9.5  X射線衍射
    9.5.1  X射線衍射方程
    9.5.2  X衍射儀的構造組成及工作原理
    9.5.3  樣品製備
    9.5.4  應用
  9.6  X射線光電子能譜
    9.6.1  X射線光電子能譜儀
    9.6.2  光電子能譜法的基本原理
    9.6.3  樣品製備
    9.6.4  應用
  9.7  拉曼散射
    9.7.1  拉曼光譜的特點
    9.7.2  拉曼光譜原理
    9.7.3  拉曼光譜分析
    9.7.4  樣品製備
參考文獻

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