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磁控濺射製備氮化銅薄膜的結構與性能

作者：肖劍榮
出版社：中國水利水電
ISBN：9787517074397

出版日期：2019/04/01
裝幀：平裝
頁數：173

人民幣：RMB 57 元售價：元

內容大鋼

磁控濺射是一種通用、成熟的薄膜製備工藝技術，其製備工藝可調劑參數較多，通過精細控制能夠實現對薄膜結構的有效調控。本書研究了薄膜的工藝參數、薄膜結構與性能等之間的內在關係，探討了薄膜的電子輸運、光學帶隙、熱穩定性的有關物理量的變化機制。全書結構合理，條理清晰，內容豐富新穎，可供相關工程技術人員參考使用。

作者介紹

肖劍榮

前言
第1章  緒論
  1.1  薄膜簡介
  1.2  薄膜的性質
  1.3  薄膜製備技術
  1.4  薄膜的表徵技術
第2章  氮化銅薄膜研究現狀
  2.1  Cu3N薄膜的製備技術
  2.2  Cu3N薄膜的晶體結構
  2.3  電學和光學性能
  2.4  熱、力學性能和耐腐蝕性
  2.5  Cu3N薄膜的應用
第3章  氮化銅薄膜的製備
  3.1  磁控濺射技術
  3.2  JGP-450a型多功能磁控濺射系統
  3.3  氮化銅薄膜的製備
第4章  氮化銅薄膜的結構研究
  4.1  薄膜的結構分析
  4.2  薄膜的表面形貌
  4.3  薄膜的組分
  4.4  薄膜的晶格常數
第5章  氮化銅的性能研究
  5.1  薄膜的電學性能
  5.2  薄膜的光學性能
  5.3  薄膜的熱穩定性研究
第6章  氮化銅的第一性原理研究
  6.1  概述
  6.2  計算方法及過程
  6.3  氮化銅的電子結構計算結果
結論與展望
參考文獻
附錄

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